GR-511F 可以控制用于冷却由静电吸盘系统固定位置的晶片背面的气体。
GR-511F 的稳定性和精确性使其成为控制晶片冷却系统中氦气和氩气流量的理想选择。
特点
压力控制更稳定、更精确
质量流量传感器(选配)
与各种接头兼容
符合 RoHS 规范
应用示例
在下面的示例中,GR-511F 控制用于冷却由静电吸盘系统固定的晶片背面的气体。
阀门类型 - C:常闭
泄漏完整性 - ≤ 7 × 10-11 Pa-m3 /s (He)
最大工作压力 - 300 kPa (A)
耐压 - 350 kPa (A)
工作温度 - 5-50 °C (精度保证温度:15-40 °C)
电源 - +15 VDC±5 %,250 mA -15 VDC±5 %,250 mA
功耗 - 7.5 VA
接口 - 模拟
气体 *1 - He、Ar、N2
标准配件 - 1/4 英寸 VCR 或同等配件
压力满刻度 - 1.333 kPa (A) (10 Torr),2.666 kPa (A) (20 Torr)、
6.666 千帕(A)(50 托)
压力控制范围 - 1-100 %F.S.
压力精度 *2 - ±0.5 %R.S.
零点温度系数 - ±0.04 %F.S./°C
跨度温度系数 - ±0.04 %R.S./°C
响应 *3 - ≤ 1 秒
压力设定信号 - 0.1-10 VDC (1-100 %F.S.) 输入阻抗 ≥ 1 MΩ
选项:0.05-5 VDC (1-100 %F.S.) 输入阻抗≥ 1 MΩ
压力输出信号 - 0-10 VDC (0-100 %F.S.) 最小电阻 2 kΩ
选件:0-5 VDC (0-100 %F.S.) 最小电阻 2 kΩ
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