光学成像系统 EEM® View

用于分析

荧光分布成像系统采用全新设计，可以测定并观察样品的光谱数据。利用AI光谱图像处理算法*1，不但可以分别显示样品的荧光图像和反射图像，还可以获得不同区域的光谱图像*1(荧光光谱、反射光谱)。 新技术可同时获得荧光 · 反射图像和光谱 测定样品的光谱数据（反射光谱、荧光光谱） 在不同光源条件（白光和单色光）下拍摄样品 　（区域:Φ20 mm、波长范围:380~700 nm） 采用AI光谱图像处理算法＊1，能够分别显示样品荧光图像和反射图像 根据图像可获得不同区域的光谱信息＊1（荧光光谱、反射光谱） 同时获取样品的荧光 · 反射图像和光谱！ 积分球漫反射使光源均匀化 利用积分球收集的光均匀照射样品 采用荧光检测器和CMOS相机双检测模式 新型荧光分布成像系统可安装到F-7100荧光分光光度计的样品仓内。入射光经过积分球的漫反射后均匀照射到样品，利用F-7100标配的荧光检测器可以获得样品荧光光谱，结合积分球下方的CMOS相机可获得样品图像，并利用独特的AI光谱图像处理算法，可以同时得到反射和荧光图像。