荧光光谱仪 X-RAY XDV-SDD

X 射线荧光工艺流程用于涂层

Fischerscope® X-射线XDV®-SDD是有一个构形的X/Y阶段和Z轴适用于稀薄的涂层非破坏性的机械化的测量和并且微小的集中痕量分析的一个高性能X-射线荧光测量的单位。 单位可能分析的涂层包括金子、钯和其他贵重金属那措施≤0.1 μm。 单位经营基于RoHS和WEEE标准的规格。 它也是测量的作用涂层的理想在电子和在半导体产业。 Fischerscope® X-射线XDV®-SDD集成与互换性的开口，主要过滤器和并且一个迅速脉冲处理器。 它也来与获得极为准确的分析的硅漂泊探测器和充分察觉敏感性。