设备特性- 亚纳秒脉冲(0.1–0.2 ns,可定制);接近衍射极限的光束质量(M2 ≤1.5);单脉冲最大能量 0.8 mJ
- 全光纤光学结构,提供稳定输出(功率稳定度 ≤3 %,24 h)并在半导体与光伏加工中提升加工性能
- 可调重复频率 100–2000 kHz,功率调节范围 0–100 %,满足工艺灵活性
- 结构紧凑、响应快速(<100 μs),光束参数可控(光斑尺寸 3.0±0.2 mm,椭圆率典型 92 %)
应用- 玻璃、硅、陶瓷的切割、打孔与划线
- 金属与薄膜的薄膜图案化与微结构加工
- 在玻璃、硅、陶瓷、金属及塑料上的永久标记
技术资料机器型号:Infrared Sub-nanosecond Laser NPFL-80IR-1.01
工作模式:脉冲式
平均功率 (W):80
中心波长 (nm):1064
光谱线宽 (nm):<30;3 dB 带宽
重复频率 (kHz):100-2000;可调
脉冲宽度 (ns):0.1-0.2 ns;可定制
最大单脉冲能量 (mJ):0.8
功率调节范围 (%):0-100
响应时间 (μs):<100
光束质量 (M2):≤1.5
功率稳定度 (%):≤3 %;24 h
光斑尺寸 (mm):3.0±0.2;1/e2
光束椭圆率 (%):>90;典型 92 %
光束偏移 (mm):<1.0
光束发散角 (mrad):<0.5
技术规格- 型号:NPFL-80IR-1.01
- 模式:脉冲式
- 平均功率:80 W
- 波长:1064 nm
- 光谱线宽:<30 nm(3 dB)
- 重复频率:100–2000 kHz(可调)
- 脉冲宽度:0.1–0.2 ns(可定制)
- 最大单脉冲能量:0.8 mJ
- 功率调节:0–100 %
- 响应时间:<100 μs
- 光束质量 (M2):≤1.5
- 功率稳定度:≤3 %(24 h)
- 光斑尺寸:3.0 ±0.2 mm(1/e2)
- 椭圆率:>90 %(典型 92 %)
- 光束偏移:<1.0 mm
- 发散角:<0.5 mrad