PVD镀膜机 LTMC

CVD真空

概述
LTMC 设备采用低温等离子体化学气相沉积（PCVD）对金属零件进行金属-陶瓷扩散处理。真空且温度低于150°C时，等离子体活化含硅、硼、氮的工艺气体，使其与金属表面反应并向基体近表层扩散，形成梯度复合陶瓷层，提升表面硬度并产生固体润滑相。

主要性能概况

• 腔体容积：3.4 m³
• 有效处理区：1,200 × 1,100 × 550 mm
• 最大装载重量：3,000 kg
• 典型工艺时间：3–5 小时（视工件与工艺要求而定）
• 工作温度：低于150°C

LTMC 技术主要优势

• 低温表面硬化：在限制基体热影响的同时提高表面硬度，适用于薄壁及精密零件。
• 陶瓷扩散结合：Si、B、N 形成陶瓷相并向表层扩散约 10–20 μm，生成结合强、耐磨的梯度复合层。
• 自润滑表面特性：如六方氮化硼等相的形成提供固体润滑，降低摩擦同时保持硬度。
• 内外表面处理：可调电极形状支持内壁及薄壁零件处理。

应用与兼容材料

• 典型应用：缸套、活塞环、切削刀具、模具、凸轮轴、摇臂、轴承、齿轮等需耐磨与低摩擦的零件。
• 可处理材料：钢、钛合金、铝合金、硬质合金（试验示例：20CrNiMo、TC17、YG6、纯铜）。

工艺与功能详情
LTMC 采用低温 PCVD：等离子体活化含 Si、B、N 的反应性气体，形成陶瓷相并向近表层扩散 10–20 μm，生成具有耐磨和自润滑特性的梯度复合层。

产品参数
设备：LTMC Low Temperature Metal Ceramic Coating Equipment
工艺技术：Low Temperature Plasma Chemical Vapor Deposition (PCVD)
腔体容积：3.4 m³
有效处理区：1,200 × 1,100 × 550 mm
最大装载重量：3,000 kg
设备尺寸（长 × 宽 × 高）：8,770 × 5,100 × 2,320 mm
成陶元素：硅、硼、氮
工艺气体：N2 / SiH4 / B2H6
陶瓷扩散深度：10–20 μm
气体控制方式：腔体压力控制或气体流量控制
真空泵配置：旋片泵 + Roots 泵
抽速：1,200 m³/h
典型工艺时间：3–5 小时
工作温度：低于150°C

常见问答（精华）

• LTMC 设备用于什么？— 低温金属-陶瓷扩散处理，用以提高缸套、轴承、齿轮、刀具、模具等部件的表面硬度、耐磨性和自润滑性能。
• 处理温度是多少？— 低于 150°C（最大工作温度 150°C）。
• 可处理哪些材料？— 钢、钛合金、铝合金、硬质合金（如：20CrNiMo、TC17、YG6、纯铜）。
• 能处理内壁和薄壁件吗？— 可以。电极形状可调以处理内壁和薄壁件（示例：1.5 mm 薄壁缸套）。
• 最大装载能力是多少？— 3,000 kg；有效处理区 1,200 × 1,100 × 550 mm；腔体容积 3.4 m³。

技术规格

• 系列 / 名称：LTMC
• 工艺：Low Temperature Plasma Chemical Vapor Deposition (PCVD)
• 腔体容积：3.4 m³
• 有效处理区：1,200 × 1,100 × 550 mm
• 最大装载重量：3,000 kg
• 设备尺寸：8,770 × 5,100 × 2,320 mm
• 工作温度：低于150°C
• 典型循环时间：3–5 小时（视工件与设置而定）
• 成陶元素：硅、硼、氮
• 工艺气体（示例）：N2 / SiH4 / B2H6
• 陶瓷扩散深度：10–20 μm
• 气体控制：腔体压力控制或气体流量控制
• 真空系统：旋片泵 + Roots 泵
• 抽速：1,200 m³/h
• 可处理材料：钢、钛合金、铝合金、硬质合金
• 能力：内外表面处理、薄壁件加工、可调电极形状