物理气相反应镀膜机 OPT-E

薄膜真空光学

概述
OPT-E是一款电子束光学镀膜系统，用于在玻璃、石英、硅片和陶瓷上沉积光学及功能性薄膜。典型应用包括移动3D玻璃、精密光学透镜和半导体晶圆。系统集成偏转电子枪与水冷铜坩埚，支持晶体监测与光学监测以实现精准的多层控制，并可配置离子源以提高膜层密度与附着力。

主要优势

• 偏转电子枪配水冷铜坩埚，可蒸发高熔点金属及氧化物陶瓷
• 晶体与光学监测实现膜厚与光谱的精确控制
• 离子辅助沉积选项（RF、空心阴极、丝状Hall）可提高膜密度与附着力
• 支持圆顶或行星式载盘，适用于连续多层工艺（AR、HR、滤光片涂层）

特性

• 电子束蒸发源
• 用于多层控制的晶体监测与光学监测系统
• 可配置的离子源类型：RF、空心阴极、丝状Hall
• 工件载具：整体圆顶或4轴行星盘；可选择公转或行星自转，具有变频无级调速
• 触摸屏界面与PLC自动化控制

产品参数
型号：OPT-E
涂镀技术：电子束蒸发
工作原理：采用高能电子束蒸发的物理气相沉积（PVD）
基材材料：玻璃、石英、硅片、陶瓷
典型应用：移动3D玻璃、精密光学透镜、半导体晶圆
涂层类型：抗反射（AR）、高反射（HR）、光学滤光膜、半导体电极/接触层、抗指纹（AF）薄膜
常用涂层材料：SiO2、TiO2、ZrO2、SiO
蒸发源：偏转电子枪+水冷铜坩埚
极限真空：6 × 10⁻⁴ Pa（空载，洁净室条件）
腔体直径选项：Ø900 / Ø1100 / Ø1350 / Ø1550 / Ø1800 / Ø2050 / Ø2350 / Ø2700 mm
腔体高度：1500 mm
工件载具：圆顶型载具 / 行星式平盘
载具规格：整体圆顶 / 4轴行星盘

技术规格

• 型号：OPT-E
• 涂覆方式：电子束蒸发（偏转电子枪 + 水冷铜坩埚）
• 监测：用于膜厚和波长控制的晶体监测与光学监测
• 离子辅助：可配置RF、空心阴极或丝状Hall离子源
• 支持基材：玻璃、石英、硅片、陶瓷
• 支持涂层：AR、HR、光学滤光、半导体电极/接触层、AF
• 常用材料：SiO2、TiO2、ZrO2、SiO
• 真空性能：可达6 × 10⁻⁴ Pa（空载，洁净室条件）
• 腔体尺寸：直径Ø900–Ø2700 mm；腔体高度1500 mm
• 工件载具：圆顶或行星式（整体圆顶或4轴行星盘），变频调速控制
• 控制：触摸屏与PLC自动化