清洁溶剂

用于电子元件用于蚀刻残留物

我们提供不同浓度的稀释氢氟酸 (HF) 溶液、特种缓冲氧化物蚀刻剂 (BOE) - 含/不含表面活性剂、混合酸蚀刻剂 (MAE) 和特种金属蚀刻剂。 产品概要 缓冲氧化物蚀刻剂 富士胶片拥有先进的能力来准确混合缓冲蚀刻剂，具有严格的检测规格和范围，有多种NH4F:HF比例可供选择 用于蚀刻二氧化硅薄膜 用于扩散前和金属化前的表面处理 由高纯度的49%氢氟酸和高纯度的40%氟化铵配制而成 可提供含和不含表面活性剂的产品 稀释氢氟酸 富士胶片拥有先进的能力，可以在严格的检测规格范围内准确混合稀释的氢氟酸 铝硅屑漂洗液 用于去除铝硅铜层蚀刻后残留的含硅残留物 混合酸蚀刻剂 用于硅（单晶和多晶）的各向异性蚀刻 特种焊盘蚀刻剂 用于蚀刻沉积的热分解和溅射的最终钝化玻璃，以暴露半导体焊盘以进行引线键合