清洁溶剂

用于电子元件用于蚀刻残留物

Etchants 种类齐全的特种和专有蚀刻剂混合物。 我们提供广泛的稀释氢氟酸(HF)比率、特种缓冲氧化物蚀刻剂(BOE)--有/无表面活性剂、混合酸蚀刻剂(MAE)和特种金属蚀刻剂。 产品摘要 - 缓冲氧化物蚀刻剂 - 富士胶片拥有先进的能力，可以在严格的检测规格范围内精确混合缓冲蚀刻剂，有多种NH4F:HF比例可供选择。 - 用于蚀刻SiO2薄膜 - 作为预扩散和预金属化表面处理剂使用。 - 由高纯度49%的氢氟酸和高纯度40%的氟化铵配制而成。 - 可提供带或不带表面活性剂的产品 - 稀释高频 - 富士胶片拥有先进的能力，可以在严格的检测规格范围内精确地混合稀释的HF。 - 雀斑蚀刻 - 用于去除铝-硅-铜层蚀刻后残留的硅结核。 - 混合酸蚀剂 - 用于硅的各向同性蚀刻（单晶和多晶）。 - 特种垫蚀刻剂 - 用于蚀刻沉积的热释光和溅射最终钝化玻璃，以暴露出用于引线键合的半导体键合垫。 - 可提供带或不带OHS表面活性剂的产品。 - 特殊金属蚀刻剂 对于特定金属层的选择性去除，富士胶片提供各种特殊蚀刻剂，包括 - 特殊铝蚀刻剂。用于铝金属化层的浸渍蚀刻剂--可使用或不使用富士胶片铝蚀刻表面活性剂（AES）。 - 铬蚀：用于铬层图案化的特殊混合物。