清洁溶剂

用于蚀刻残留物

清洗液 用于清洗刻蚀后残留在铝和铜合金、抗反射层、SiO2和低电介质上的水溶性的清洗液。 高效水溶性刻蚀后清洁剂，适用于Al/SiO2和 Cu/low-k BEOL 工艺。 适用范围包括去除合金、抗反射层和SiO2电介质等的蚀刻残留物 同时可和铜、低介电常数材料和超介电常数材料的大马士革工艺兼容。 • - 工艺宽容度大 • - 与喷涂和批处理机台应用兼容 • - 与羟胺 (HA) 溶剂型清洗液相比，拥有明显的成本优势， 可直接用去离子水冲洗 o - 节省了IPA漂洗化学品成本 o - 去除了IPA漂洗步骤提高产量 • - 安全易用 • - 优良的工艺设备材料相容性 • - 良好的金属和 层间绝缘层（ILD）兼容性 • - 包装选项： o - 4 L HDPE 瓶 o - 200升桶装