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清洁溶剂 用于蚀刻残留物
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产品规格型号
- 用途
- 清洁
- 应用
- 用于蚀刻残留物
产品介绍
用于清洗刻蚀后残留在铝和铜合金、抗反射层、SiO2和低电介质上的水溶性的清洗液。
产品介绍
高效水溶性刻蚀后清洁剂，适用于Al/SiO2和 Cu/low-k BEOL 工艺。
适用范围包括去除合金、抗反射层和SiO2电介质等的蚀刻残留物 同时可和铜、低介电常数材料和超介电常数材料的大马士革工艺兼容
特点与优势
工艺宽容度大
与喷涂和批处理机台应用兼容
与羟胺 (HA) 溶剂型清洗液相比，拥有明显的成本优势， 可直接用去离子水冲洗
节省了IPA漂洗化学品成本
去除了IPA漂洗步骤提高产量
安全易用
优良的工艺设备材料相容性
良好的金属和 层间绝缘层（ILD）兼容性
包装选项：
4 L HDPE 瓶
200升桶装
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