概述Gasboard-2060 是一款高性能 SiF4 气体传感器,专为硅基 CVD 沉积腔室的实时腔室清洗终点检测(EPD)设计。基于非分散红外(NDIR)技术并配备专门设计的气室,可在半导体腔室清洗过程中对 SiF4 浓度进行高选择性和高精度检测。Gasboard-2060 实时监测 SiF4 浓度,能够快速且精确地指示清洗终点,从而减少清洗时间和气体消耗,同时降低腔室磨损并延长部件使用寿命。模块化设计便于安装,并支持校准和调节功能,便于集成与维护。
特性- NDIR 技术,具备对 SiF4 的高灵敏度和高精度测量能力。
- 响应快速,可精确判断沉积腔室清洗终点。
- 低零点漂移和高重复性,确保测量性能稳定。
- 模块化设计,便于系统集成和安装。
- 提供模拟和数字通信输出,接口灵活。
规格测量气体:SiF4
检测原理:NDIR
量程: (0.0-0.2) Absorbance
响应时间:T90<2s
数据报告率:0.5s
模拟输出:1-10VDC
电源输入:15VDC (≤300mA), 24VDC
数字通信:RS232
取样口:KF16
尺寸:200×120×75.5mm
泄漏率:<1×10-8 Pa·m3/s (He)
工作温度: (5~65) ℃
技术规格- 测量气体:SiF4
- 检测原理:NDIR
- 量程: (0.0-0.2) Absorbance
- 响应时间:T90<2s
- 数据报告率:0.5s
- 模拟输出:1-10VDC
- 电源输入:15VDC (≤300mA), 24VDC
- 数字通信:RS232
- 取样口:KF16
- 尺寸:200×120×75.5mm
- 泄漏率:<1×10-8 Pa·m3/s (He)
- 工作温度: (5~65) ℃