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质量流量: 0 l/min - 0.1 l/min
工艺温度: 0 °C - 80 °C
工艺压力: 1.1 bar - 3.5 bar
... 关键的半导体制造过程不断要求精确的 气体 流量控制设备，以实现未来的创新，以及领先的存储和逻辑设备的实验室到工厂的过渡。HORIBA公司提出了新的基于压力的MFC D700MG, D500MG的上部兼容型号，以支持客户的挑战。 工具上 气体和全尺寸配置更改 *仅 EtherCAT 为流程优化提供灵活性 100 ms 响应速度和mfc到mfc的偏差控制 提供高生产力和更大的过程性能 小 流量 ...
HORIBA STEC
工艺温度: 0 °C - 80 °C
工艺压力: 0.13 bar - 4 bar
重复精度: 0.01 % - 0.3 %
... D700WR 安装了一个新的节流器，专为大范围控制应用设计，基于 CRITERION™ 技术，具有高精度性能。D700WR 可将 流量控制在全量程范围的 0.1%，帮助用户优化 气体输送系统的灵活性。例如，如果系统安装了多个 MFC 用于高、低 流量控制，用户可以减少 MFC 的数量，在同一位置使用另一个 MFC 用于不同的目的。 0.1～100% 宽范围控制和高精度低 流量 ...
HORIBA STEC
工艺温度: 0 °C - 80 °C
工艺压力: 3.5 bar - 7.5 bar
重复精度: 0.03 % - 0.3 %
... 这款技术先进的压差式质量 流量控制器具备压差检测功能和压电驱动阀。 高性能 CRITERION D500 适用于一系列先进的半导体制程，具有压力补偿，多量程/多 气体/多压力，G-LIFE（集成限流器方程的 气体定律校验）自诊断功能，高精度、快速响应、宽量程、全金属等特点。 压力不敏感性能 高性能压力补偿新功能简化了供气系统 多量程、多 气体、多压力解决方案 ...
HORIBA STEC
工艺温度: 15 °C - 45 °C
工艺压力: 2.4 bar - 4.12 bar
... D700uF（微 流量）专为 ≤ 5SCCM 流量应用而设计。 在高纵横比工艺中，≤ 5SCCM 流量控制至关重要。 专用组件和新开发的内部低 流量标准可实现低至 0.025SCCM 的高精度 流量控制。 低至 0.025SCCM 的 流量控制能力 精确的调谐 气体控制，提高工艺可调性 ...
HORIBA STEC
工艺温度: 15 °C - 60 °C
工艺压力: 2.4 bar - 3.5 bar
... D700T 是专为关键半导体制造工艺设计的性能最佳的压力敏感型质量 流量模块。D700T 采用了 HORIBA CRITERION 压力式 流量测量和控制技术，具有业界领先的可重复性和精确性。此外，D700T 的独特之处还在于采用了获得专利的先进 流量控制算法和双阀结构，使客户的 气体输送系统能够解决多重挑战。 ≤ 100 毫秒的全面快速稳定时间（设定、升压和降压） 入口和出口压力不敏感性能 先进的故障检测功能可诊断压力传感器偏移、阀座泄漏和 流量精度变化 重复精度在 ...
HORIBA STEC
质量流量: 0.1, 0.3 l/min
工艺压力: 0.5 bar - 4 bar
重复精度: 0.15, 0.01 %
... SEC-Z700S 系列配备了新开发的热传感器和压力补偿功能，可实现稳定的 流量控制。集成压力测量功能降低了 气体输送系统的成本、尺寸和复杂性。 新功能简化了供气系统。典型的多腔室 气体管线具有管线调节器、压力传感器和过滤器，以避免由压力波动引起的质量 流量控制器串扰现象。 SEC-Z700S 系列可以不受上流和下流压力的影响，提供稳定的 流量控制。提供 流量输出、温度和压力读数。 基本特征 ...
HORIBA STEC
... 关键的半导体制造过程不断要求精确的 气体 流量控制设备，以实现未来的创新，以及领先的存储和逻辑设备的实验室到工厂的过渡。HORIBA公司提出了新的基于压力的MFC D700MG, D500MG的上部兼容型号，以支持客户的挑战。 工具上 气体和全尺寸配置更改 *仅 EtherCAT 为流程优化提供灵活性 100 ms 响应速度和mfc到mfc的偏差控制 提供高生产力和更大的过程性能 小 流量 ...
HORIBA STEC