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质量流量: 0 l/min - 0.1 l/min
工艺温度: 0 °C - 80 °C
工艺压力: 1.1 bar - 3.5 bar
... 关键的半导体制造过程不断要求精确的气体 流量控制设备，以实现未来的创新，以及领先的存储和逻辑设备的实验室到工厂的过渡。HORIBA公司提出了新的基于压力的MFC D700MG, D500MG的上部兼容型号，以支持客户的挑战。 工具上气体和全尺寸配置更改 *仅 EtherCAT 为流程优化提供灵活性 100 ms 响应速度和mfc到mfc的偏差控制 提供高生产力和更大的过程性能 小 流量 MRMG 功能（Bin101 - Bin105） 为需要小 流量的工艺提供灵活性 PFA ...
HORIBA STEC
工艺温度: 0 °C - 80 °C
工艺压力: 0.13 bar - 4 bar
重复精度: 0.01 % - 0.3 %
... D700WR 安装了一个新的节流器，专为大范围控制应用设计，基于 CRITERION™ 技术，具有高精度性能。D700WR 可将 流量控制在全量程范围的 0.1%，帮助用户优化气体输送系统的灵活性。例如，如果系统安装了多个 MFC 用于高、低 流量控制，用户可以减少 MFC 的数量，在同一位置使用另一个 MFC 用于不同的目的。 0.1～100% 宽范围控制和高精度低 流量 为流程优化提供灵活性 ≤ ...
HORIBA STEC
工艺温度: 0 °C - 80 °C
工艺压力: 3.5 bar - 7.5 bar
重复精度: 0.03 % - 0.3 %
... 先进的工艺健康监控功能允许操作人员自行进行测试，即使提高通过量，通常也能在三秒或更短的时间内完成测试。 高精度 先进的三维调整功能提高了工艺气的 流量精度 快速响应 响应时间：< 0.8 秒 可实现精确、稳定的 流量控制 动态范围 控制范围广：0.2% 满量程 至 100% 满量程 技术文件 压力型 质量 流量控制器 ...
HORIBA STEC
工艺温度: 15 °C - 45 °C
工艺压力: 2.4 bar - 4.12 bar
... D700uF（微 流量）专为 ≤ 5SCCM 流量应用而设计。 在高纵横比工艺中，≤ 5SCCM 流量控制至关重要。 专用组件和新开发的内部低 流量标准可实现低至 0.025SCCM 的高精度 流量控制。 低至 0.025SCCM 的 流量控制能力 精确的调谐气体控制，提高工艺可调性 ...
HORIBA STEC
工艺温度: 15 °C - 60 °C
工艺压力: 2.4 bar - 3.5 bar
... D700T 是专为关键半导体制造工艺设计的性能最佳的压力敏感型 质量 流量模块。D700T 采用了 HORIBA CRITERION 压力式 流量测量和控制技术，具有业界领先的可重复性和精确性。此外，D700T 的独特之处还在于采用了获得专利的先进 流量控制算法和双阀结构，使客户的气体输送系统能够解决多重挑战。 ≤ 100 毫秒的全面快速稳定时间（设定、升压和降压） 入口和出口压力不敏感性能 先进的故障检测功能可诊断压力传感器偏移、阀座泄漏和 流量精度变化 重复精度在 ...
HORIBA STEC
质量流量: 0.1, 0.3 l/min
工艺压力: 0.5 bar - 4 bar
重复精度: 0.15, 0.01 %
... SEC-Z700S 系列配备了新开发的热传感器和压力补偿功能，可实现稳定的 流量控制。集成压力测量功能降低了气体输送系统的成本、尺寸和复杂性。 新功能简化了供气系统。典型的多腔室气体管线具有管线调节器、压力传感器和过滤器，以避免由压力波动引起的 质量 流量控制器串扰现象。 SEC-Z700S 系列可以不受上流和下流压力的影响，提供稳定的 流量控制。提供 流量输出、温度和压力读数。 基本特征 ...
HORIBA STEC
... 关键的半导体制造过程不断要求精确的气体 流量控制设备，以实现未来的创新，以及领先的存储和逻辑设备的实验室到工厂的过渡。HORIBA公司提出了新的基于压力的MFC D700MG, D500MG的上部兼容型号，以支持客户的挑战。 工具上气体和全尺寸配置更改 *仅 EtherCAT 为流程优化提供灵活性 100 ms 响应速度和mfc到mfc的偏差控制 提供高生产力和更大的过程性能 小 流量 MRMG 功能（Bin101 - Bin105） 为需要小 流量的工艺提供灵活性 PFA ...
HORIBA STEC
质量流量: 0 us gal/min - 100 us gal/min
工艺温度: 5 °C - 50 °C
工艺压力: 0.5 bar - 3 bar
... 系列数字式液体 质量 流量控制器采用珀尔帖元件冷却液体，而非更常见的热交换方法。该技术消除了低沸点化学物质沸腾的风险，从而实现更安全的化学控制。 提供微升至超低 流量控制 实现低沸点和高粘度液体材料的精确 流量控制 超洁净设计 测量技术 冷却测量方法 该系列液体 质量 流量控制器中的 流量传感器由与毛细管接触的电子冷却元件（珀尔帖元件）以及几个温度检测元件组成。当液体流动时，传感器检测对应 流量的温升（ΔT），并以 流量显示。与热交换不同，这种冷却方法能够测量低沸点液体的 流量。此外，该方法还能防止由于二次排放 ...
HORIBA STEC
质量流量: 0 m³/h - 33,629 m³/h
工艺温度: -200 °C - 350 °C
... 深U形双传感器最大限度地提高了精度 流速转换率高达200:1 适用于液体和气体 传感器尺寸从<1毫米到10英寸 能够测量从0-0.032 GPH到0-423,000 BPD的速率 液体的流速不确定性+/-0.1%（+/-零稳定性误差） 密度不确定性+/-0.0005 g/ml（CC003至CC250）。 润湿材料为316/316L SST或合金C22 OIML R117计量认证 全球危险场所认证 CRN/ASME ...
工艺温度: -200 °C - 200 °C
工艺压力: 0 bar - 94 bar
Oval Corporation
工艺温度: -200 °C - 200 °C
工艺压力: 0 bar - 94 bar
Oval Corporation
质量流量: 10 l/min - 8,000 l/min
工艺温度: 0 °C - 50 °C
工艺压力: 0 bar - 7 bar
Oval Corporation
质量流量: 2.4 m³/h - 450 m³/h
工艺温度: 0 °C - 60 °C
工艺压力: 0 bar - 9.8 bar
Oval Corporation
质量流量: 0 m³/h - 3,640 m³/h
工艺温度: -40 °C - 500 °C
工艺压力: 0 bar - 10 bar
Oval Corporation