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... 等离子体增强化学气相沉积 (PECVD) 是一种利用等离子体内的能量来加速晶圆表面化学反应从而在低于 400°C 的温度下生产薄膜的工艺。沉积过程中出现的高能离子轰击可用于调整薄膜的电气和机械性能。SPTS Delta™ PECVD 系统已广泛用于先进封装、射频、功率、光子设备和 MEMS 市场，尤其是需要低处理温度的应用。Delta™ fxP 集群系统可为各种介电薄膜提供全面的工艺库，且沉积温度介于 80°C 至 400°C。该系统还提供单晶圆和多晶圆预热腔体选项以便对敏感基板进行脱气，以及针对晶圆背面沉积的边缘接触处理能力。 • ...
KLA Corporation
... 主要用于晶体硅太阳能电池制造中电池片的减反射膜生长，也可用于在电池片的背面沉积钝化膜。 石墨舟及硅片准备→管内充氮气→进舟→抽真空、压力测试→氨气预清理和检查→管路抽真空、测漏、恒温→预镀膜→镀膜→抽真空、压力测试→清管路、充氮气→退舟 1、兼容氮氧化硅PERC技术。 2、双水冷密封技术。 3、专利内加热技术。 4、高速平稳整体模组推舟机构。 5、悬浮承载舟技术。 6、自主知识产权MES软件。 7、自主开发中央计算机集中控制系统。 8、快速镀膜技术。 9、全面的防超温、断偶、撞舟等安全报警保护功能。 ...
... 通过在放电后向等离子体中注入前驱体，ULCoat系列可以在处理过的表面上沉积薄膜。 ULCoat是一款可将前驱体汽化并注入等离子体中，后由喷嘴完成薄膜沉积的系统。ULCoat系列需要与ULS OMEGA系列配合使用。 ULCoat系列的标准版本是为了允许使用有机金属作为前驱体进行氧化硅（SiOx）的沉积而设计的。当然，我们也可以根据要求开发其他薄膜成分。 您可以与我们的研发实验室合作，在研发合同的框架下，定制您的专属解决方案。 系列技术特点 – 与ULS OMEGA系列搭配使用 ...
... MCVD是Modified Chemical Vapor Deposition的缩写，译为改良型化学气相沉积。预制棒的生产方法最早由美国贝尔实验室和南安普顿大学于20世纪70年代初提出，1973年由美国贝尔实验室发明。 鉴于MCVD设备在制备不同种类的预制棒方面具有很强的灵活性，它已成为生产高质量通信光纤预制棒的四大方法之一，并在传感和激光用特种光纤预制棒的制造领域有着广泛的应用。 MCVD法可以在石英管（俗称衬里）的内壁上沉积较高纯度的二氧化硅（SiO2），具有较高的质量（高纯度、低水分、低杂质）；其他可以改变折射率或玻璃体粘度的高纯度物质，如二氧化锗（GeO2）、五氧化二磷（P2O5）、氟化硅（SiO1-5F）等、掺杂在一起，形成具有不同折射率的纤芯和包层，从而使光信号在纤芯中传播时实现全反射、低损耗和高容量。 ...
... 氢燃料电池汽车双极板涂覆设备，碳基涂覆设备 , 双极板涂覆设备 应用： FCV 是燃料电池汽车的简称，是下一代绿色汽车的最新技术。它是 100% 环保的，不同于需要反复充电的干电池和充电电池等原电池。 其核心技术是如何利用燃料电池动力模块，通过氢气作为燃料与氧气之间的电化学反应产生电能。来自交通组织和全球汽车制造商的科学家、工程师、教授进行了数千次测试，最终开发出了适当的处理方法。 在过去的三年里，皇家技术公司与客户密切合作，成功设计并制造出高效率、商业化和标准化的溅射沉积系统。我们坚信，这项技术将颠覆汽车行业。 ...
Shanghai Royal Technology Inc.
... Multi950 设备位多面体(八面体)结构, 可安装:1套阳极层离子源,1对MF中频磁控溅射阴极； 1对PECVD阴极, 8只可控阴极弧发射源.且安装法兰均为标准型号,实现 离子源,弧与溅射阴极随工艺不同而灵活互换的功能. 设备特点 1. 灵活性:腔体采用侧壁八面体设计,前后开门；每个面采用门法兰安装方式,阴极,弧源,溅射阴极,离子源等器件分别安装于各个门法兰上；可实现灵活互换,对R&D研发新涂层非常适用 2. 多样性:可以沉积各种本金属和金属合金;光学膜,硬质涂层,软质涂层,复合膜 ...
Shanghai Royal Technology Inc.
... 眼镜架 PECVD 薄膜镀膜机 , 眼镜架用 SiC 真空镀金机 FCV 是眼镜框的简称，是下一代绿色汽车的最新技术。它可以通过氧和氢之间的电化学反应持续产生电能。它不同于干电池和充电电池等需要反复充电的一次电池。 其核心技术是如何利用燃料电池动力模块，通过氢气作为燃料与氧气之间的电化学反应产生电能。 氢燃料电池作为动力模块中最关键的部分，来自交通组织和全球汽车制造商的科学家、工程师、教授进行了成千上万次试验，最终找到了合适的处理方法。 它是 100% 环保的技术和交通工具。 我们的 ...
Shanghai Royal Technology Inc.
... 最大的资本效率和占地面积节省，提供领先的性能 Veeco 的 EPIK® 868 是 LED 业界最高性能的金属有机物化学气相沉积 (MOCVD) 系统，可实现出色的均匀性和可重复性，以及低缺陷率。EPIK 868 拥有四反应腔配置并采用突破性技术，包括专有的 IsoFlange™ 和 TruHeat™ 技术，其可在整个晶片载体上提供层流和均匀的温度曲线。这些技术创新推动了迷你和微型 LED 所需的更高产量。EPIK 固有的 868 TurboDisc® 技术可实现最高的系统可用性和正常运行时间。EPIK ...
VEECO
... LEYBOLD OPTICS DLC 是一种高真空等离子增强化学气相沉积（PECVD）系统，主要用于热成像系统的红外（IR）涂层。 行业领导者正在使用 LEYBOLD OPTICS DLC 设备来保护光学设备免受损害，这些设备应用于本机基材上的极硬和环境电阻光学涂层。 系统设计可实现极硬的层表面 LYBOLD OPTICS DLC 系统专为生产类金刚石硬碳 (DLC) 层涂层而设计，用于锗 (Ge) 和硅 (Si) 基材上的红外抗反射应用。 极其坚硬的 DLC 层可保护...的光学表面并提高红外透射率。 ...
Bühler Leybold Optics
... 科学研究涂层设备 实验性真空镀膜设备具有外形美观、结构紧凑、性能多样、操作简单可靠、功耗低等特点。它可以实现蒸发镀膜、磁控溅射镀膜、电弧镀膜、CVD、PECVD等工艺。它可以手动、半自动和全自动控制。有许多尺寸和型号可供选择。 ...
... Voyager PIB-CVD是一个围绕无灯丝的Endeavor射频离子源建立的等离子体离子束辅助化学气相沉积（PIB-CVD）系统。这种获得专利的离子源，通过设计，可以在很大范围内独立控制离子电流密度和离子能量，能够产生高沉积率的多层涂层。它能够在低温下（低于100°C）沉积高速率、高质量的涂层，使其与典型的塑料基材，如聚碳酸酯（PC）和聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）兼容。 Voyager PIB-CVD系统的设计重点是类金刚石纳米复合材料（DLN），为平面（如硅片）和三维部件（如光学镜片）的涂层提供一流的灵活性。该系统配置了Denton的Process ...
... 是实验室测试和工业生产小件的理想选择 多功能的设备，可升级为多层配置 完美地适用于。 中小型部件（如电子、医疗应用等）。 晶片最大可达 ø 200 mm (8 英寸) 总体尺寸（长x宽x高）- 2100 x 1370 x 2000mm 重量 - 350公斤 炉膛尺寸 - ∅ 295 x 370 mm 工具尺寸 - ∅260 x 320 mm 最大模具负荷-100公斤 模具负载能力--150g 泵送能力-40立方米/小时 所需电源 - 3 x 400V + N + PE - 50 Hz 3 ...
COMELEC
... 经过生产验证的 Titan 沉降系统是一种带有真空盒式电梯的负载沉降系统。 它可以配置为聚氯乙烯、聚氯乙烯、聚氯乙烯、聚氯乙烯、聚氯乙烯。 泰坦沉积（Titan）以经济实惠的价格在小占地面积中提供创新和领先的工艺。 针对硅氧化硅、SiNx、SiC 和 A-Si 的可重复沉积制定了标准生产工艺。 所有这一切都以超过 25 年的快速工艺开发经验为后盾。 系统特点： PLC 和触摸屏控制 静电，或机械夹头 主动基板温度控制 真空盒式电梯 可选激光器和光学端点 ...
Trion Technology
... 它适用于高效晶体硅perc 电池工艺中致密氧化铝和其他背钝化膜材料的生长。 可在各种薄膜之间连续切换； 支持两端推舟机构，消除抖动，提高速度，增加负载，大大提高可靠性（专利）。进出舟时间不超过 20 秒（不含取舟和放舟）； 特殊形状的双炉门机构，减少热量损失（专利双炉门结构）； 石墨舟电极技术：电极面接触，前后电极互补，尾电极炉管外可调； 快速冷却炉体：采用最新专利技术，使炉体温度快速降至所需温度，冷却速度提高 25% 以上，显著改善炉管内温度均匀性； 专利的舟形存放位置平行散热模式：提高冷却效果，冷却时间缩短 ...
... 产品介绍： 化学气相沉积系统的功能是在基底上沉积薄膜，改善材料性能，制造功能器件，实现表面改性，精确控制薄膜厚度，提高产品质量，辅助新材料研发，用于集成电路制造等，具有工艺可控性强、可大规模生产、成本可能较低等优点。 ...