质谱仪离子源

纳升流离子源 CaptiveSpray 2 和 CaptiveSpray Ultra 作为捕集离子淌度谱（ TIMS ）的核心，具有无与伦比的性能和操作简便性。 卓越的性能 CaptiveSpray 2 和 CaptiveSpray Ultra 独特设计，使纳升流灵敏度触手可得。 强大的兼容性 与所有 PepSep 色谱柱、IonOpticks 色谱柱以及自制柱无缝兼容。 操作简便性新标准 得益于其 “ on-off ” 的拆装设计，几秒内即可轻松完成安装。 完美的精准性 零死体积连接和精确的 ...

在大多数质谱分析任务中，系统的灵敏度是极其重要的。加热电喷雾有助于提高电离效率。与标准的电喷雾相比，VIP-HESI 应用在代谢组学和药物分析、环境、食品和法医毒物分析等领域，大大提高了很多化合物的灵敏度。VIP-HESI 在布鲁克 TQ 系列质谱上已有近 10 年的成功应用，强大性能毋庸置疑。 最新版本的 VIP-HESI 电离源可以与所有的 timsTOF 和 TOF 系列仪器相兼容，且安装过程简单快速。对于许多化合物，配备 VIP-HESI 离子源的高分辨质谱达到了业界领先的 ...

大气压力化学电离源（ APCI ） 用于 ESI 电离源很难电离的弱极性化合物的分析。与 ESI 相比，它主要产生单电荷离子，尤其是对于大分子来说。 APCI 源不能用于热不稳定化合物的分析，因为溶剂的蒸发是通过加热雾化喷针中的样品来完成的。APCI 常用于代谢组学的分析以及药物或农药的筛查。 新的布鲁克 APCI II 源可以与布鲁克独一无二的直接进样杆 DIP 相兼容。直接进样杆是一种创新的固体进样技术，可以实现固态样品的快速分析。样品的制备很简单，只需要将一次性玻璃毛细管浸入固体样品中即可

... 大气压光离子化 (APPI) 用于极性较低或非极性分子，这些分子无法在 ESI 或 APCI 中电离。 APPI 动态范围宽，化学噪音低。其操作流量范围为 2µl/min - 1500µL/min ，可与从帽式色谱到分析色谱兼容。 布鲁克-道尔顿公司的 APPI II 是唯一具有 DirectProbe 选项的 APPI 源，可直接分析固体样品。直接进样探针是一种新颖的智能固体样品导入技术，可快速分析固体样品。 样品制备非常简单，只需将一次性玻璃毛细管浸入固体样品中即可。 ...

直接进样探针（DIP）可加装在布鲁克APCI II或APPI II离子源上，无需繁琐的样品处理过程即可将液体或固体样品直接分析。在常规有机合成化合物的分析中，DIP可以大大简化鉴定和表征化学反应产物的过程而不损失灵敏度。 纯物质的灵敏度可达亚-ng级，肉眼几乎看不到！ 样品制备非常简单 直接分析液体或固体样品 分析时间短 采用一次性玻璃毛细管，无记忆效应

如今，化学分析经常面临着非常复杂的混合化合物的分析，这些化合物无法在现存数据库中找到。利用布鲁克超高分辨 TOF 系统，搭载 LC 或 GC，可以轻松完成此类化合物的鉴定。 通过第二代 GC-APCI 源，GC 可以与高分辨质谱系统相连接，提供最大的灵活性和最高的仪器性能，可以对未知的化合物进行鉴定。基于 Apollo 离子源设计，GC-APCI II 可以搭载布鲁克任何质谱系统。 GC-APCI II 旨在连接到最先进的 GC 系统，包括布鲁克的 436-GC ...

... 低流量分离领域的一场革命，保持了坚固性和敏感性的完美平衡 基于值得信赖的Turbo V源设计，并采用手指紧固的配件，无需工具即可安装 新的探针确保稳定的液滴形成，实现高质量的喷雾，并为多种流量范围进行了优化： 微型：1 - 10, 10 - 50, 50 - 200 µL/min 纳米级：100 - 1000 nL/min 在几分钟内即可在纳米流和微流之间切换 切换到高灵敏度的低流量分析再容易不过了 您在传统分析流中所期待的坚固性和简单性现在可以在您的高灵敏度微流和纳流分析中得到体验。 我们通过标准尺寸的手指紧固装置和新的单键源界面使之成为可能--使您可以毫不费力地连接您的LC、色谱柱和质谱。OptiFlow源配备了智能探针识别技术，可以预设系统源设置和探针位置，提供最佳的喷雾，并消除了所有的手动调整。 易于使用，具有尖端功能的低流量源技术 为您的业绩提供动力的创新技术 OptiFlow源采用了增强的气流动力学和IonDrive加热器来提高离子的产生和稳定性，有助于确保多个系统和多个用户的结果的一致性。对纳米流和微流进行了广泛的实验，以找到最佳的探头位置、突起和典型的气体和温度设置。 ...

... 用于超高压表面分析的5keV铯离子枪 IG5C的特点是低功率、高亮度的表面电离源与一个紧凑的离子柱相配合，在一个小包装中提供高性能。该枪被设计为所有SIMS应用的主要离子束，包括动态、静态和成像。 薄膜光学涂层 电子材料 通过基于windows PC的界面进行控制，处理源的热管理，该枪很容易和可重复地设置，可以配置为大电流或小光点应用。LabVIEW的驱动程序也可用，以允许OEM集成到其他系统。 空气稳定的离子源 小型安装法兰，安装灵活 易于安装自对准的替换源 源的使用寿命长 差分泵送，保持真正的UHV室压力 双透镜柱设计 易于更换光束定义孔径 ...

... 用于超高真空表面分析的5keV氩或氧离子源 IG20具有高亮度的电子冲击气体离子源，专门为氧气能力而设计，但也适用于惰性气体和其他气体。 薄膜光学涂层 电子材料 核材料 IG20被设计为SIMS、Auger和XPS应用于成像和深度剖析的主要离子束，然而，内部产生的光栅扫描和广泛的操作参数使其适用于样品清洁和表面科学实验。两个用户可切换的灯丝确保了在灯丝爆裂的情况下继续工作--可以在用户方便的时候更换。 强烈的离子束，光斑大小为100微米，能量为0.5 - ...

... 一系列用于残余气体分析的离子源选项 海顿生产了多种离子源类型，可以安装在我们全系列的RGA中。离子源类型对RGA的性能至关重要，能够指定您所需要的离子源，可以确保我们的RGA为特定的应用进行定制配置。 热分析TA/MS 催化研究 反应动力学 燃料电池 cvd/mocvd/alcvd 环境监测 标准RGA 一般应用的径向对称配置 UHV Low Profile 为UHV TPD研究而优化，使离子源更接近进化表面 封闭源 用于高压研究，直接输入气体，与分析器的差分泵阶段一起使用 XBS交叉束 ...

... 为高要求的超高压应用而配置的残余气体分析仪 Hiden RGA for UHV是为要求严格的UHV应用中的残余气体分析而设计和配置的，在UHV下需要进行关键的测量。 残余气体分析 泄漏检测 解吸 放气研究 烘烤循环 泵的性能 工艺气体污染物 HAL 201 RC分析仪包括所有离子源类型的镀金版本，作为标准配置。提供镀金离子源是为了最大限度地减少源放气，适合于总压力< 5 x 10-10 mbar的应用。 EPICS是世界上许多光源使用的标准仪器控制软件，海登HAL系统与EPICS软件驱动程序完全兼容。 镀金的离子源，最大限度地减少源放气 电子冲击电离器带有双氧化层的铱金灯丝 双法拉第/通道创电子多普勒检测器 最小可检测的部分压力为5 ...