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... 迪纳电子的等离子体系统早已在广泛的工业领域确立了自己的地位。有了Zepto低压等离子体系统，您可以在真空中依靠现代的、面向未来的冷等离子体技术。这种等离子体系统的腔体容积约为1-4升，为实验室和小批量生产提供了足够的空间。 低压等离子体处理是一种成熟的技术，可用于受控的超细清洗、附着力增强（活化和蚀刻）以及基材表面的薄膜涂层。等离子体是通过在真空室中施加高频电压产生的。在此过程中，引入的工艺气体被电离。 应用的领域： 有机残留物的无VOC清洗 喷漆、涂胶、灌封前的活化... 主要特点： 桌子外壳 真空室：硼硅酸盐玻璃，RIE-钟形铝，矩形室，钠钙玻璃 真空室容积：约1-4升 气体供应：针阀，质量流量控制器(MFC) 发电机频率：40 ...
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... 迪纳电子的等离子体系统早已在广泛的工业领域确立了自己的地位。有了Yocto III低压等离子体系统，您可以在真空中依靠现代的、面向未来的冷等离子体技术。该等离子体系统的腔体容积约为0.3升，为实验室和小批量生产提供了足够的空间。 低压等离子体处理是一种成熟的技术，可用于受控的超细清洗、附着力增强（活化和蚀刻）以及基材表面的薄膜涂层。等离子体是通过在真空室中施加高频电压产生的。在此过程中，引入的工艺气体被电离。 应用的领域： 有机残留物的无VOC清洗 喷漆、涂胶、灌封前的活化... 主要特点： 桌子外壳 真空室：硼硅酸盐玻璃 箱体容积：约0.3升 气体供应：通过过滤器提供工艺气体，通过阀门提供流量（不可调节），通过过滤器提供通风 发电机的频率：100 ...
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... 迪纳电子的等离子体系统早已在广泛的工业领域确立了自己的地位。有了Tetra 2800低压等离子体系统，你可以依靠现代的、面向未来的真空冷等离子体技术。这种等离子体系统的腔体容积约为2800升，为系列化生产提供了足够的空间。 低压等离子体处理是一种成熟的技术，用于可控的超细清洗、附着力增强（活化和蚀刻）和基材表面的薄膜涂层。等离子体是通过在真空室中施加高频电压产生的。在此过程中，引入的工艺气体被电离。 应用的领域： 有机残留物的无VOC清洗 喷漆、胶合、浇注前的活化... 蚀刻聚四氟乙烯、光刻胶、氧化层、... 超疏水和亲水涂层 主要特点： 落地式的外壳 真空室：不锈钢 箱体容积：约2800升 气体供应：通过MFC的3个气体通道，质量流量控制器(MFC) 发电机频率：80 ...
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... 迪纳电子的等离子体系统早已在广泛的工业领域确立了自己的地位。有了Tetra 30低压等离子体系统，您可以在真空中依靠现代的、面向未来的冷等离子体技术。这种等离子体系统的腔体容积为34至50升，为系列化生产/自动化提供了足够的空间。 低压等离子体处理是一种成熟的技术，用于可控的超细清洗、附着力增强（活化和蚀刻）和基材表面的薄膜涂层。等离子体是通过在真空室中施加高频电压产生的。在此过程中，引入的工艺气体被电离。 应用的领域： 有机残留物的无VOC清洗 喷漆、胶合、浇注前的活化... 聚四氟乙烯、光刻胶、氧化层的蚀刻，... 超疏水和亲水涂层 主要特点： 落地式的外壳 真空室：不锈钢或铝 箱体容积：34 ...
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... 迪纳电子的等离子体系统早已在广泛的工业领域确立了自己的地位。有了Tetra 45低压等离子体系统，您就可以在真空中依靠现代的、面向未来的冷等离子体技术。该等离子体系统的腔体容积约为45升，为系列生产/自动化提供了足够的空间。 低压等离子体处理是一种成熟的技术，用于可控的超细清洗、附着力增强（活化和蚀刻）和基材表面的薄膜涂层。等离子体是通过在真空室中施加高频电压产生的。在此过程中，引入的工艺气体被电离。 应用的领域： 有机残留物的无VOC清洗 喷漆、胶合、浇注前的活化... 蚀刻聚四氟乙烯、光刻胶、氧化层、... 超疏水和亲水涂层 主要特点： 落地式的外壳 真空室：铝制 箱体容积：约45升 气体供应：质量流量控制器（MFCs） 发电机的频率：80千赫（0-100瓦）/（0-3000），100千赫（0-500瓦），13.56兆赫（0-300瓦），2.45吉赫（0-850瓦） 控制：基本PC控制（Windows ...
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... 迪纳电子的等离子体系统早已在广泛的工业领域确立了自己的地位。有了Femto低压等离子体系统，您可以在真空中依靠现代的、面向未来的冷等离子体技术。这种等离子体系统的腔体容积为2至3升，为实验室和小批量生产提供了足够的空间。 低压等离子体处理是一种成熟的技术，可用于受控的超细清洗、附着力增强（活化和蚀刻）以及基材表面的薄膜涂层。等离子体是通过在真空室中施加高频电压产生的。在此过程中，引入的工艺气体被电离。 应用的领域： 有机残留物的无VOC清洗 喷漆、胶合、浇注前的活化... 蚀刻聚四氟乙烯、光刻胶、氧化层、... 超疏水和亲水涂层 主要特点： 台式或落地式的外壳 真空室：不锈钢、铝、硼硅酸盐或石英玻璃 箱体容积：2-3升 气体供应：针阀或质量流量控制器（MFCs） 发电机的频率：40 ...
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... 迪纳电子的等离子体系统早已在广泛的工业领域确立了自己的地位。有了Atto低压等离子体系统，您可以在真空中依靠现代的、面向未来的冷等离子体技术。该等离子体系统的腔体容积约为10.5升，为实验室和小批量生产提供了足够的空间。 低压等离子体处理是一种成熟的技术，用于可控的超细清洗、附着力增强（活化和蚀刻）以及基材表面的薄膜涂层。等离子体是通过在真空室中施加高频电压产生的。在此过程中，引入的工艺气体被电离。 应用的领域： 有机残留物的无VOC清洗 喷漆、涂胶、灌封前的活化... 主要特点： 桌子外壳 真空室：硼硅酸盐（HP），铰链式门 箱体容积：约10.5升 气体供应：通过针阀或MFC的2个气体通道 发电机的频率：40 ...
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... 迪纳电子的等离子体系统早已在广泛的工业领域确立了自己的地位。有了Tetra 150低压等离子体系统，您就可以在真空中依靠现代的、面向未来的冷等离子体技术。该等离子体系统的腔体容积约为150升，为系列生产/自动化提供了足够的空间。 低压等离子体处理是一种成熟的技术，用于可控的超细清洗、附着力增强（活化和蚀刻）和基材表面的薄膜涂层。等离子体是通过在真空室中施加高频电压产生的。在此过程中，引入的工艺气体被电离。 应用的领域： 有机残留物的无VOC清洗 喷漆、胶合、浇注前的活化... 蚀刻聚四氟乙烯、光刻胶、氧化层、... 超疏水和亲水涂层 主要特点： 落地式的外壳 真空室：不锈钢或铝 箱体容积：约150升 气体供应：质量流量控制器（MFCs） 发电机的频率：80 ...
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... 迪纳电子的等离子体系统早已在广泛的工业领域确立了自己的地位。有了Tetra 100低压等离子体系统，您可以在真空中依靠现代的、面向未来的冷等离子体技术。该等离子体系统的腔体容积约为100升，为系列化生产/自动化提供了足够的空间。 低压等离子体处理是一种成熟的技术，用于可控的超细清洗、附着力增强（活化和蚀刻）以及基材表面的薄膜涂层。等离子体是通过在真空室中施加高频电压产生的。在此过程中，引入的工艺气体被电离。 应用的领域： 有机残留物的无VOC清洗 喷漆、胶合、浇注前的活化... 蚀刻聚四氟乙烯、光刻胶、氧化层、... 超疏水和亲水涂层 主要特点： 落地式的外壳 真空室：不锈钢或铝 箱体容积：约100升 气体供应：质量流量控制器（MFCs） 发电机的频率：80 ...
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... 迪纳电子的等离子体系统早已在广泛的工业领域确立了自己的地位。有了Pico低压等离子体系统，您可以在真空中依靠现代的、面向未来的冷等离子体技术。这种等离子体系统的腔体容积为5至8升，为实验室和批量生产提供了足够的空间。 低压等离子体处理是一种成熟的技术，用于可控的超细清洗、附着力增强（活化和蚀刻）以及基材表面的薄膜涂层。等离子体是通过在真空室中施加高频电压产生的。在此过程中，引入的工艺气体被电离。 应用的领域： 有机残留物的无VOC清洗 喷漆、胶合、浇注前的活化... 蚀刻聚四氟乙烯、光刻胶、氧化层、... 超疏水和亲水涂层 主要特点： 台式或落地式的外壳 真空室：不锈钢、铝、硼硅酸盐或石英玻璃 箱体容积：5 ...
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... Tantecs VacuTEC 等离子体处理机专为处理各种注塑件而设计。 VacuTEC 有单盘和多盘两种配置。 VacuTEC 可以快速完成表面处理，提供最佳粘附性，为后续的涂覆、打胶、上漆和印刷做好充分准备。在处理腔中，真空度可以达到 2 – 12 mbar，然后通过集成等离子体电极产生放电。处理工作周期很短，约需 2-120 秒，具体取决于零件的材质和配方。 VacuTEC 以操作简单、生产可靠和加工快速而著称。可以使用氩气、氧气等处理气体，但大多数情况下并不需要，因为等离子体放电可以产生极高功率。 VacuTEC ...
Tantec
... Tantecs VacuTEC 2020 等离子体处理机专为处理各种注塑件而设计。VacuTEC 可以快速完成表面处理，提供最佳粘附性，为后续的涂覆、打胶、上漆和印刷做好充分准备。 在处理腔中，真空度介于 0,1 至 3 mbar，然后通过集成等离子体电极产生放电。处理工作周期很短，约需 20-120 秒，具体取决于零件的材质和配方。 VacuTEC 以操作简单、生产可靠和加工快速而著称。可以使用氩气、氧气等处理气体，但大多数情况下并不需要，因为等离子体放电可以产生极高功率。 VacuTEC ...
Tantec
... Tantecs VacuTEC 5050 等离子体处理机专为处理各种注塑件而设计。VacuTEC 可以快速完成表面处理，提供最佳粘附性，为后续的涂覆、打胶、上漆和印刷做好充分准备。在处理腔中，真空度介于 0,1 至 3 mbar，然后通过集成等离子体电极产生放电。处理工作周期很短，约需 5 – 600 秒，具体取决于零件的材质和配方。 两个货架上产品的有效尺寸：500 x 500 x 100 mm。VacuTEC 以操作简单、生产可靠和加工快速而著称。可以使用氩气、氧气等处理气体，但大多数情况下并不需要，因为等离子体放电可以产生极高功率。 VacuTEC ...
Tantec
... 标准 VacuTEC 系统，可以定制腔体尺寸，适应多种用途。Tantec 可提供 VacuTEC 标准机型或定制机型。VacuTEC 定制机型经专门开发，可以完全满足客户需要和生产线要求。 Tantecs VacuTEC 系列等离子体处理机专为处理各种注塑件而设计。 VacuTEC 可以快速完成表面处理，提供最佳粘附性，为后续的涂覆、打胶、上漆和印刷做好充分准备。在处理腔中，真空度介于 0,1 至 3 mbar，然后通过集成等离子体电极产生放电。 输出电压/等离子体功率 5kV / 1200W 电源 ...
Tantec
... 标准 VacuTEC 系统，可以定制腔体尺寸，适应多种用途。Tantec 可提供 VacuTEC 标准机型或定制机型。VacuTEC 定制机型经专门开发，可以完全满足客户需要和生产线要求。 Tantecs VacuTEC 系列等离子体处理机专为处理各种注塑件而设计。 VacuTEC 可以快速完成表面处理，提供最佳粘附性，为后续的涂覆、打胶、上漆和印刷做好充分准备。在处理腔中，真空度介于 0,1 至 3 mbar，然后通过集成等离子体电极产生放电。 处理工作周期很短，约需 5 – 60 秒，具体取决于零件的材质和配方。VacuTEC ...
Tantec
... 标准与定制化真空等离子体处理机Tantec VacuLINE 等离子体处理机可用于处理各种注塑件。该机无需专人操作，是在线生产的理想设备。VacuLINE 系统可以快速完成表面处理，提供最佳粘附性，为后续的涂覆、打胶、上漆和印刷做好充分准备。 在处理腔中，真空度可以达到 1 – 4mbar，然后通过集成等离子体电极产生放电。处理工作周期很短，约需 20-180 秒，具体取决于零件的材质和配方。 VacuLINE 等离子体处理机以操作简单、生产可靠和加工快速而著称。可以使用氩气、氧气等处理气体，但大多数情况下并不需要，因为等离子体放电可以产生极高功率。 VacuLINE ...
Tantec
... 1. 对象（瓶）孔径直径：φ12-φ350 毫米 2. 对象（瓶）高度：390 毫米 3. 气压：6 巴 4. 火焰枪高度：440 毫米 5. 输送机尺寸：450x2500毫米 6. 功率：50 — 60 兆赫 7. 输送速度：1500PCS/HR 8. 燃气：液化石油气体 9. 机器尺寸 ：2800x1500x950mm 10. 机重：255KG 火焰处理机有两个 速度控制 1：一个速度控制器用于调节输送机 速度 2：另一个速度控制器用于调节火焰处理区域的转速 ...