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... 晶片双流体离心清洗机，又称晶片清洗设备、碲化铋晶片清洗机、 全自动双流体离心清洗机、半导体晶片清洗机。 全自动离心清洗机设备主要由以下部件组成： 清洗槽、喷淋清洗和漂洗系统、喷淋清洗槽、液体循环过滤系统、往复运动系统、 管路、控制系统 1 套、内置清洗腔工作台、水压气压监控、机架等。 为方便运输，机器底部装有万向活动脚轮和支撑脚。 半导体晶片清洗机是一种全自动清洗机。 清洗介质为两种流体（城市用水或纯净水和压缩空气）。 清洗介质为两种流体（市水或纯净水和压缩空气）。 清洗机工作时，操作员将待清洗的手板放在工作台上。 放好后，手动关闭前窗。确认关紧后，手动按下清洗按钮、 气动往复式移动喷淋清洗开始对工件进行清洗和冲洗。 时间一到，警报器就会提醒工作人员。工作人员取出托盘，完成整个清洗过程。 除装载和卸载外，整个清洗和冲洗过程都是全自动的，无需人工干预。 设备配有紧急停止开关，以便在紧急情况下迅速停止设备的运行。 ...
... >清洗介质为两种流体（高纯水和压缩空气）。 >除装载和卸载外，整个清洗和漂洗过程完全自动化，无需人工干预。 > 安装位置安全合理，操作简便。 >设备接地可靠，确保人员和设备电路安全 清洗槽、喷淋清洗、液体循环过滤系统、往复移动系统、管路、PLC 触摸屏控制系统 1 套，内置清洗腔工作台、水压气压监控、机架等。 为方便运输，机器底部装有横向活动脚轮和支撑脚。 ...
... 罗技的SWC3000提供单晶圆清洁台式系统，用于对MEMS和半导体行业使用的晶圆和掩模进行无损伤的优化清洁。 SWC3000系统提供了可控的化学品分配能力，可以加强试样表面的颗粒去除。利用化学分配功能和超声清洗技术可以实现高度优化的清洗。 通过去离子水的径向流动将释放的颗粒从基体表面扫除。如果没有这个功能，固定式清洗槽会有更多的颗粒重新附着，因此需要更多的清洗时间来清除。 SWC3000系统能够用加热的N2或IPA进行原位旋转干燥。以最低的资本投资和拥有成本实现了 ...
本机是一款全自动晶片刷洗机，全程封闭环境采用机械手自动操作，具备刷洗甩干功能，适用于各种半导体衬底材料抛光后的刷洗，可有效减少晶片表面颗粒污染。 功能齐全 具备刷洗甩干功能，全程封闭环境机械手操作，风险小，避免二次污染 操作简便 PLC触摸屏控制，机械手自动完成cassette to cassette的全自动晶片刷洗工作 兼容性好 可兼容2、4、6英寸晶片 占地面积小 尽量减少洁净间的占地面积
Beijing Semiconductor.CO.,Ltd
该系列设备是晶圆CMP后的专用清洗设备，有单工位、转位式、连线式等不同结构，以适用不同应用场景，其中连线式设备加配全自动上下片系统。该系列设备配有漂洗、双面刷洗、兆声清洗、N2吹干、高速甩干功能，集成度高，占地面积小，湿进干出，适用于各类CMP后晶圆的清洗。 功能齐全 系列设备均配有漂洗、双面刷洗、兆声清洗、N2吹干、高速甩干功能 操作简便 PLC系统，触摸屏控制，一键式自动完成刷洗清洗加工，其中连线式设备配有全自动上下片系统，cassette to ...
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