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... Jelt DECOLNET 喷雾剂是顽固残留物质的理想解决方案，如来自贴纸、标签和其他带有粘合剂表面的介质的胶水。 此外，这种速干产品设计用于在应用几秒钟内对粘性物质起作用，可用于各种材料。 ...
... Flux-Off® No Clean Plus 助焊剂清除剂是一种超强的溶剂，可以清除沉重和结壳的助焊剂沉积物。这种高压气雾剂或散装液体能迅速渗透，以去除所有类型的助焊剂、氧化颗粒、灰尘、油脂和油，然后迅速蒸发，不留任何残留物。 可与The BrushClean™系统一起使用--刷子的温和擦洗作用与高性能的助焊剂清除剂相结合。点击这里获取更多信息。 特点和好处 去除所有类型的结壳、烘烤过的焊剂 额外的清洁强度 易燃 干燥速度快 不留下任何残留物 全向喷雾阀--甚至可以倒立喷雾 可提供刷子清洁™系统 应用 清除所有类型的松香基和合成免清洗焊剂 最大限度地减少白色残留物的形成 ...
CHEMTRONICS
... lux-Off®无铅助焊剂清除剂是一种超强的溶剂，可清除高温无铅焊接应用中产生的沉重和结壳的助焊剂沉积物。这种强大的清洗剂能迅速清除所有类型的助焊剂、氧化物颗粒、灰尘、油脂和油，然后迅速蒸发，不留任何残留物。 可与The BrushClean™系统一起使用--刷子的温和擦洗作用与高性能的助焊剂清除剂相结合。点击这里获取更多信息。 特点和好处 专为去除高温、无铅助焊剂而设计 也可用于去除锡/铅焊剂 迅速蒸发，不留残余物 全向喷雾阀--甚至可以倒立喷雾 可燃性 符合RoHS标准 可与BrushClean™系统一起使用 应用 专为去除无铅焊剂而配制 是去除热降解的焊剂的理想选择 ...
CHEMTRONICS
... Flux-Off® Delta™ 助焊剂清除剂是一种超强的非易燃溶剂，可清除沉重的和结壳的助焊剂沉积物。迅速渗透残留物，去除所有类型的助焊剂、生产污染物、灰尘和油，然后迅速蒸发，不留任何残留物。 Flux-Off® Delta助焊剂去除剂采用Delta化学原理--新的强大的精密清洁解决方案，是AK225和其他化学品的理想替代物。新的环境限制迫使工厂寻找和评估新的清洁产品。有了Chemtronics的Delta精密溶剂清洗剂，改变是好的......真的很好！"。 可使用The ...
CHEMTRONICS
... Contact Re-Nu®是一种低全球变暖的配方，用于卓越的电子产品清洗。它是一种无味的药剂，能够恢复所有类型的电子产品清洗的电气和机械连续性，包括连接器、继电器、调谐器、编码器、滑线、变阻器、配电盘、伺服机械和开关设备。它对大多数塑料、弹性体和金属都是安全的。 优点 超低的全球变暖潜能值 蒸发迅速 不留下任何残留物 对大多数塑料、弹性体和金属都很安全 符合RoHS标准 方便的气溶胶喷罐 溶剂的特性 沸点 - 70°F/21°C 密度 - 1.17 g/ml ...
... Permatex 电气触点和零件清洁剂适用于清洁电气和电子设备。这种快速挥发、无腐蚀性的清洁剂不会留下任何残留物。 1 用于清洁电气和电子设备 2 快速挥发、无腐蚀性的清洁剂不会留下残留物 3 可安全用于所有金属和大多数塑料 4 可去除油脂、污垢、油、助焊剂和其他表面污染物 电子零件：电路板、电脑元件、继电器开关。电气部件：电动机、发电机、起动器、泵、电机绕组、螺线管和压缩机。 ...
用于光刻胶洗边、预湿润和其他应用的溶剂 现如今，关键的光刻胶应用需要精密的光刻胶洗边工艺(EBR)。因此，我们开发了一套完整的EBR解决方案系列，不但能够提供完善的洗边工艺，而且还能保持纯度、包装和环境保护的行业标准。 特点与优势 • - 通过使用先进的分析工具不断验证产品纯度 • - 在美国、欧洲和亚洲的工厂制造和包装 • - 包装选项： o - 4 x 4L 瓶 o - 200L 桶装（可回收） o - 1000L IBC o - 大量的应用实绩 产品概要 核心产品 • ...
Fujifilm NDT Systems/富士
... 快速蒸发、高性能、溶剂型脱脂剂，不含消耗臭氧的溶剂。极性和非极性溶剂可去除污垢、水分和轻度油类。 特性 挥发速度快 不含HFC、HCFC、TCE、DCE、n-Br 对所有金属和大多数塑料都很安全 残留物少，纯度高 不含消耗臭氧的化学品 美国国家科学基金会注册-K2 ...
... 干溶剂清洗剂，专门用于修复触点以及清洗和脱氧任何类型的电气、电子和机电设备。可彻底清洁、溶解污垢、残留物、油脂、蜡、粘合剂、灰尘和氧化物。它能迅速挥发，使部件干燥无残留。 应用 适用于电子电气设备、电机、发电机、配电盘、继电器、开关、接线端子、连接器、键盘、操纵杆、传感器、电话系统、警报系统、测试仪、实验室仪器等。 优点 重新激活电气触点 彻底清洁和脱脂 快速蒸发 无残留 ...
... 亨斯迈生产的低痕量金属级季胺具有一系列结构，可用于半导体配方清洗、蚀刻或剥离应用。亨斯迈的季胺具有低腐蚀率和易于处理的特点；在水溶液和非水溶液中，它们的浓度都比TMAH高。 光敏电阻的显影和剥离 蚀刻和去除 光电池纹理化 化学机械平坦化后的清洗 低微量金属，高纯度 可提供浓度高达45%的产品 可在水溶液和非水溶液中使用 E-GRADE® THEMAH是一种三（羟乙基）甲基氢氧化铵的水溶液。它是一种透明、高pH值的液体，气味温和，热稳定性好。该产品主要用于半导体、显示器和PCB行业的剥离和清洗配方。 ...
Huntsman Advanced Materials
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