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... 安装在真空室内产生高密度等离子体的等离子体源。利用和真空蒸镀结合的等离子体辅助沉积技术（离子镀），能提高光学薄膜、保护膜、功能膜等的薄膜特性。另外，还可以用作等离子处理如对清洗基板和表面改性也很有效。 产品特点 安装在真空室内产生高密度等离子体的等离子体源。利用和真空蒸镀结合的等离子体辅助沉积技术（离子镀），能提高光学薄膜、保护膜、功能膜等的薄膜特性。另外，还可以用作等离子处理如对清洗基板和表面改性也很有效。 主要特点 ...
... ULS Omega配备了丰富的接口，极高的灵活性使他可以集成到复杂的工业生产或科研环境中。当需要监测和控制等离子体加工参数时，或者需要与生产线中的其他单元进行交互时，它都是您的理想选择。 ULS OMEGA 现可根据您的需要，选装1至3个等离子体喷嘴，以提高处理效率。 ULS系列的灵活性还允许根据需要，将尽可能多的喷嘴拼装以满足处理大尺寸材料的要求。 ULS系列技术特点 – 占地面积小，喷嘴紧凑，易于集成整合 – 同时具备强力的局部处理和大规模扫描处理能力 – 常压气体或压缩气体均可使用 – ...
... ULS系列产品有两个版本可供选择：ULS NANO 和ULS OMEGA. 全系提供标准版本与OEM版本 (OEM版本不内置触摸屏)。 ULS系列技术特点 – 占地面积小，喷嘴紧凑，易于集成整合 – 同时具备强力的局部处理和大规模扫描处理能力 – 常压气体或压缩气体均可使用 – 可通过I/O、Modbus RTU（RS485）或Modbus TCP/IP接口进行外部监控 – 标准版或OEM版 直观的数字触控界面 – 内置触摸屏 – 直观的操作 – 多语言界面 -故障检测和诊断 – 实时显示指令 适用气体 – ...
... 用于原子氧和原子氮的 RF Atom 源通过 优化的设计最大限度地减少功率损失 放电区由高品质材料制成，确保光束 零离子电流配置的污染最小化。 高品质复合材料的成长 理想情况下需要中性，原子物种。 而氧气或氮气等分子气体的反应性比分解成原子形态的反应性要小一个数量级。 因此，使用分子氧形成氧化物通常需要较高的温度和/或较长的氧化期，而分子氮对许多材料几乎没有反应。 因此，分离物种的反应性增加了许多数量级，因此允许在低压和合理的基底温度下种植氧化物或氮化物。 然而，等离子体过程中产生的离子物种往往充满活力，并可能造成点缺陷。 ...
... Tru...sma DC 3000 系列（G2）适用于多种直流溅射工艺，包括用作脉冲工艺电源的替代品。这是因为渐进式电弧管理可保证最佳的镀层质量，并显著提高产量。由于水冷直流发生器的设计极为紧凑，因此可以非常容易地集成到您当前的应用中。 同类产品中电弧能量最低 < 0.3 mJ/kW 的残余能量保证了最佳的镀层质量和高沉积率。 高功率密度 设计非常紧凑（19 英寸插入式装置），即使功率较大，也能轻松集成。 功率范围广 输出功率从 20 千瓦到 300 千瓦不等，因此也可用于替代大型发电机。 完全水冷 可延长系统运行时间并减少维护。 系统集成简单 可变线路电压（400 ...
... 体验全新治疗解决方案带来的精确、高效和多功能的完美融合。我们的 SpinTEC30 是专为精确和高效而设计的创新型治疗解决方案。 Tantec 创新的 SpinTEC30 等离子系统的治疗宽度为 30 毫米。 该系统的工作速度约为 25 米/分钟，专为提高生产率而设计。转速可调，从 70 到 2800 RPM/min，可根据您的具体需求进行定制。 直接无刷发动机可确保性能可靠、使用寿命长。陶瓷滚珠轴承的使用有助于提高系统的耐用性和效率。该系统在设计时考虑到了极简主义，只有少量易损件。这不仅减少了频繁更换的需要，还有助于提高系统的整体耐用性。 尽管体积小巧，但性能却丝毫不打折扣。SpinTEC30 ...