硅光学窗口 ZLY197

圆形

大硅窗硅可以通过不同的方法生产，其中最主要的是Czochralski（Cz）和Float-Zone（Fz）技术。采用 Czochralski 拉制技术生长时，由于氧气的存在，在 9µm 处会出现一个吸收峰，而采用 Float-Zone 技术制备时，这个吸收峰会大大降低。光学硅晶体透镜和窗口通常掺杂硼（p 型）或磷（n 型），以增加其电阻率（5 至 40 欧姆厘米）。与锗一样，硅也是一种半导体材料，室温下的间接带隙为 1.1 微米。 硅在 1-6 微米和 50 微米以上的透射率约为 50%，因此建议使用 AR 涂层以获得更高的透射率，还可在...表面涂上 DLC 涂层以提高其耐用性。 由光学级硅制造而成的纯硅（Si）窗口由于成本低、密度小，在 1.2 - 7μm 光谱区域很受欢迎。由于密度低（仅为锗或硒化锌的一半），硅非常适合对重量敏感的应用，尤其是 3 - 5μm 区域的应用。硅的密度为 2.329 克/立方厘米，努氏硬度为 1150，因此比锗更硬、更不易碎。同时，我们还提供不同涂层的硅窗口，如 Dlc 涂层硅窗口、BBAR 涂层硅窗口和 AR 涂层。我们提供各种基材的 Zoolied 光学窗口，如 DLC 涂层硅窗口、N-BK7(H-K9L)、Cvd Znse 透镜、Ir Znse 窗口和单晶 Caf2 窗口。紫外线（UV）、可见光或红外线（IR）有多种抗反射涂层可供选择。