硅光学窗口 ZLY199

防反射方板形圆形

Lwir Ge 窗口是长波长红外应用的理想选择，包括用于低功率 CO2 激光器。锗还具有低色散特性，非常适合成像应用。单晶锗铱的涂层具有 3 至 12 微米和 8 至 12 微米的高透射率。 -非常适合近红外应用 -带有 Dlc 涂层和宽带 3 至 12 µm、8 至 12 µm 防反射涂层的锗。 -适合要求低色散的应用 -非常适合低功率 CO2 激光应用 光学窗口有多种基材可供选择，如 Dlc 涂层硅窗口、N-BK7(H-K9L)、Ir Znse 窗口。紫外线（UV）、可见光或红外线（IR）有多种抗反射涂层可供选择。 锗（Ge）窗口有现成的三种抗反射涂层可供选择：3 - 5μm 用于中红外应用，3 - 12μm 用于宽带多光谱应用，或 8 - 12μm 用于热成像应用。由于锗的折射率较高（在 2 - 14 微米范围内约为 4.0），建议在这些锗窗口上涂一层防反射涂层，以便在相关区域内实现足够的透射率。锗会发生热失控，即随着温度的升高，透射率会降低。因此，这些锗窗口应在温度低于 100°C 时使用。在设计对重量敏感的系统时，应考虑到锗的高密度（5.33 克/立方厘米）。锗的努氏硬度（780）约为氟化镁的两倍，因此非常适合需要坚固光学器件的红外应用。