活性制药成分 (API) 的颗粒粉碎。WAB的湿磨技术可有效减小API和赋形剂的粒度。 通过DYNO®-MILL PHARMA研磨机粉碎粗颗粒以达到必要的粒度分布。 DYNO®-MILL PHARMA研磨机系列实现根据现行良好生产规范 (cGMP) 协议的微米级和纳米级机械研磨。 借助半自动或全自动控制系统和符合FDA 21 Part 11标准的WAB SCADA系统来完成。 此外,还可为DYNO®-MILL PHARMA设备选配在线清洗(CIP)和在线灭菌(SIP)功能。 WAB非常谨慎地为其客户提供支持,从编写用户需求说明书 (URS) 到安装确认 (IQ) 及运行确认 (OQ)。
功能
药品制造商先用固体API和液体介质制备可泵送的悬浮液。在该悬浮液中,粒度分布起初非常宽,并包含较大比例的粗颗粒。粗颗粒主要由API材料的聚集与附聚产生。
DYNO®-MILL PHARMA研磨机的主要任务在于使聚集体和附聚体分散成所需粒度分布。
鉴于活性制药成分研发的诸多步骤和大量要求,广泛的解决方案可提供有力支持。
WAB在制药工业领域拥有数十年经验,为全球客户群提供品种丰富的可靠机器。
DYNO®-MILL PHARMA湿磨机
适用于从少量研发到生产规模的不同机型可选
可实现“软性研磨”及“高能研磨”加工工艺
可实现从10微米到100纳米以下的粒度分布