太阳能镀膜机 LPCVD

管式低压淀积炉 本设备主要用于晶体硅太阳能电池制造中硅片表面淀积多晶硅及原位掺杂。 1、低压化学气相淀积功能。 2、多重水冷密封机构。 3、反应管双层结构。 4、独立调节分段进气方式。 5、平移式炉门驱动机构。 6、高速平稳整体模组推舟机构。 7、全数字化控制。 8、更多温区温度控制。 9、智能化全自动控制。 10、全面的防超温、断偶、撞舟等安全报警保护功能。