红外光学窗口

圆形熔融二氧化硅锗

埃赛力达提供具有卓越机械、化学和环境耐久性的高耐用性定制窗口，以应对波长至少193 nm的要求严苛的应用。借助我们专有的先进等离子源（APS）和离子束溅射（IBS）镀膜技术，这些高度耐用的窗口具有抗损坏性，可用于UV、VIS、NIR和红外波段。 作为第一家提供市售离子束溅射（IBS）薄层镀膜的公司，我们继续扩展我们的技术，以生产最高质量的薄膜，可在从深紫外（190 nm）到长波红外（14 um）波长的整个光谱范围内实现一系列功能。埃赛力达能够生产性能最高、损耗最低、最耐用的薄膜，这在全世界都无与伦比。 我们广泛的红外高耐久性窗口几乎可以采用任何基材材料定制，包括熔融石英、Si、Ge、ZnSe、ZnS、CaF2、MgF2、Cleartran和AMTIR。