红外摄像机 Xi 1M ETH

模拟数字用于加工过程监督

Optris Xi 1M 是一款短波红外热像仪，擅长对具有挑战性的物体进行非接触热成像。它能够精确测量热金属、钢铁、陶瓷和半导体的表面温度。凭借自主热测量能力和电动对焦功能，该热像仪在工业环境中提供了可靠性和便利性，无需额外的硬件。它配备了以太网、USB 接口，以及模拟和数字过程接口，实现了与控制系统和机械设备的无缝集成。 Optris Xi 1M 是一款短波红外热像仪，在非接触热成像领域提供了创新、经济实惠和高精度的性能，专门用于测量具有挑战性的物体表面温度。设计在短波红外范围内工作（波长：0.85 – 1.1 μm），这款前视红外热像仪专为捕捉热钢、铁、黄铜、铜、锡、碳、陶瓷和半导体的精确表面温度分析而设计。为了满足各行业的严格要求，Optris Xi 1M 提供了宽广的高温测量范围、卓越的准确性和可定制的视场配置。 许多由非光亮材料组成的测量物体在长波红外光谱范围内显示出较高且相对恒定的发射率，而这些材料在长波红外波段的低发射率会导致测量结果的不稳定和不可靠。短波 Xi 1M 红外热像仪的光谱范围与大多数金属材料的最高发射率相匹配，从而简化了远程温度测量。此外，根据普朗克辐射定律，在短波范围内发射的红外辐射显著增加，因此线性发射率问题对短波温度测量结果的重复性影响较小。因此，在考虑到较高的温度测量范围时，对高温光亮材料的非接触温度测量应尽可能使用短波段。 这些红外热像仪能够自主寻找热热点，增强了在各种监控和检查任务中的实用性和效率。Xi 1M 红外热像仪专为这些具有挑战性的工业应用设计和制造，在精度、准确性和重复性方面优于长波红外热像仪。 Xi 1M 红外热像仪具有中等分辨率的热成像能力（396 x 300 像素），能够在 450°C 至 1800°C 的广泛温度范围内出色地捕捉温度数据，无需子范围。其卓越的距离与点大小比率确保即使在相当远的距离拍摄图像时也能准确测量温度。这种优越的比率超越了现代高温计的光学性能，使其能够详细监控远距离目标。此外，电动对焦功能允许用户远程精确调整其表面温度测量目标的焦点。 Optris Xi 1M 工业级和坚固的设计确保了在苛刻工业环境中的可靠性，使其成为工艺工程师在制造过程中进行精确红外温度测量的必备工具。其紧凑但耐用且防水的设计使该红外热像仪非常适合固定安装或挂载设置，保证在各种工业制造环境中的耐用性。 Optris Xi 1M 以太网作为其主要接口，能够轻松连接到计算机，帧率为 20 Hz。USB 接口也是次要选项，帧率为 20 Hz，用于 132 x 100 像素的子图像。其智能自主操作消除了广泛的软件编码需求，使其能够轻松集成到控制回路中。此外，这款红外热像仪具有自动点查找、直接模拟输出（0/4-20mA）以及与工业现场总线系统（如 Ethernet/IP、Modbus TCP/IP、RS485 或 Profinet）兼容的功能，使其成为原始设备制造商（OEM）使用的终极解决方案。Xi 1M 的自主操作模式以 20 Hz 运行，用于 132 x 100 像素的子图像，进一步简化了其在机械设备中的集成。 此外，Optris Xi 1M 通过 PIX Connect 软件许可证提供了更复杂的软件功能，如线扫描或图像合并。PIX Connect 对于寻求具有强大软件平台用于热图像处理和温度数据收集的经济型红外热像仪的研究人员来说是不可或缺的。开发工具包也可供开发特定应用软件解决方案的集成商使用。 这些创新功能增强了红外热像仪在各类应用中提供准确可靠的表面温度测量的能力，从制造过程中的质量控制到状态监测以及研发活动。Xi 1M 的多功能性确保了其在各种工业环境中的无缝集成，增强了热像仪对特定需求的适应性。凭借其先进的功能，Optris Xi 1M 为固定安装红外成像树立了新的标准，提供了一种经济高效且强大的解决方案，适用于多种工业应用。 同时，Xi 1M 红外热像仪兼容广泛的适用于恶劣环境的配件。这些配件包括水冷外壳，将工作温度范围扩展至 250 度。