光学显微镜 PT-ON200 series

工业超分辨率数码摄像机式

显微镜技术已经从传统的光学方案发展到精密的超分辨率显微镜。普通光学显微镜观察亚波长结构的能力受到恩斯特-阿贝在1873年发现的阿贝方程的限制，也叫阿贝衍射极限。显微镜的空间分辨率受到光学衍射的限制，大约是光波长的一半。在可见光光谱中，大约是200nm。现在，在许多研究实验室的环境中，可以发现超分辨率的光学成像。然而，超越约200纳米的障碍，在自然环境空气中的光学成像一直是限制。在2000年初，一群研究人员开始开发一种名为光学微球纳米镜（OMN）的技术。OMN被纳入到一个名为OptoNano的革命性仪器中，这是世界上第一个在环境空气中的纳米级成像工具，其工作距离可控，分辨率可达到137纳米，且无需样品制备。OptoNano显微镜不仅突破了光学极限，而且打破了超分辨率显微镜的高成本和高操作复杂性的障碍。这为从研究实验室到生物化学科学家再到工业生产车间应用的用户采用这种独特的超分辨率显微镜技术开辟了新的模式。