激光光刻系统 PhableR 100

PhableR 100系统基于Eulitha AG公司开发的专有PHABLE（Photonics Enabler的缩写）光刻技术，该技术使在非接触、近距离光刻系统中打印高分辨率的周期性结构成为可能。使用PhableR 100获得的分辨率与DUV投影光刻系统基本相同，但没有复杂而昂贵的光学和机械装置。例如，半间距为150纳米的线性光栅可以用新系统以高均匀度打印出来。作为一个额外的优势，PhableR 100系统所形成的图像的焦点深度实际上是无限的，这意味着高分辨率的图案甚至可以在非平坦的基底上以高均匀性进行印刷，这在光子学应用中是经常遇到的。 PhableR 100系统可以使用行业标准的玻璃上镀铬或移相掩模对直径达100毫米的基材进行曝光。掩膜和基片是手动加载到系统上的，曝光过程由一个板载计算机控制。可以使用标准的i-line光刻胶，包括正片和负片，这些光刻胶可以从普通供应商那里获得。线性或弯曲的光栅、具有六边形或方形对称性的二维光子晶体类型的图案可以被印刷，特征周期小于300纳米。该系统也可以像标准的掩膜对准器一样，在接近或接触模式下用于打印微米级结构。