防反射光学镀膜机

DLC 保护层锗红外

North American Coating Laboratories 专门为各种光学基底定制设计和生产红外涂层，包括 Ge、Si、ZnS、ZnSe、AMTIR、GA SIR、IG-5 和 IG-6，波长范围从紫外线到长波红外线 (LWIR)。 NACL 在离子辅助电子束蒸发和等离子体增强化学气相沉积 (PECVD) 方面的专业技术使其成为真空镀膜行业最值得信赖的合作伙伴之一。 NACL 很荣幸能在 Ge、Si、IG-6 和 ZnSe 等基材上提供通过 PECVD 沉积的类金刚石碳 (DLC)，我们的 DLC 薄膜具有最佳性能，甚至可满足最苛刻的 MIL-Spec 要求。 红外材料和涂层能力： - 用于 3-5um 和 8-12um 的锗（Ge）抗反射和 DLC - 用于 3-5 微米和 8-12 微米的钙钛矿抗反射和 DLC - 硅 (Si) 抗反射和 DLC（3-5 微米和 8-12 微米 - 蓝宝石（AlzOs）抗反射，3-5 微米和 8-12 微米 - 硒化锌（ZnSe）抗反射和 DLC 3-5 微米和 8-12 微米 - 硫化锌（ZnS）抗反射和 DLC 3-5 微米和 8-12 微米