聚合物3D打印树脂 IP-n162

原型法

新型IP-n162光刻胶 微光学用高折射率印刷材料 Nanoscribe推出新的IP-n162光刻胶，用于打印折射2.5D和3D微光学元件，具有巨大的设计自由度。该打印材料具有1.62的高折射率，这扩大了通过3D微细加工创建创新的微型光学系统的机会。 创新设计的3D微光学 IP-n162光致抗蚀剂设计用于高精度的聚合物微光学元件的快速成型制造。与其他用于双光子聚合3D微细加工的打印材料相比，用IP-n162打印的折射光学元件具有更高的折射率和更低的阿贝数。IP-n162完美地融入了Nanoscribe的3D打印机的增材制造，并与3D微细加工解决方案集介质功能兼容。 589nm波长下n=1.62的高折射率光致抗蚀剂。 1200-1550nm波长的低吸收率，用于红外微光学。 阿贝数低，分散度高 与IP-S结合使用，适用于消色差微光学器件的印刷。 高折射率微光学的原型设计 IP-n162具有1.62的高折射率。在Nanoscribe的2PP树脂中，这种新的印刷材料不仅具有最高的折射率，而且具有最高的分散度，阿贝数为25。因此，印刷结构的光学特性接近于通常用于注塑成型的光学聚合物，如聚碳酸酯或聚酯。这使得微光学的原型制作变得简单而快速，有助于避免昂贵的金刚石铣制注塑模具的反复使用。