光学高温计 CellaWafer PA 38

数字°C°F

产品概述：
CellaWafer PA 38 是一款用于硅片和金属的非接触数字测温仪，测量范围为 450–1800 °C。其非常短波长且窄带的光谱响应使其非常适合硅片加工（如 RTP）以及钨、钼等金属的测量。传感器设计降低了对被测体发射率变化的敏感性，从而在生产环境中提供更稳定的测量结果。

主要特点：

• 测量范围 450 至 1800 °C
• 可调焦可更换光学件，便于精确设置测量距离
• 宽带抗反射精密光学件
• 短波长、窄带光谱范围（0.88 µm）
• 针对硅片和金属的精密测量进行了优化
• 4 位 LED 显示，远距离可读
• 诊断用测试电流输出
• 标准接口：模拟输出、USB 和 RS‑485

可选属性 / 典型配置：

• 测量范围：450 – 1800 °C
• 焦距示例：0.3 m – ∞（取决于镜头）
• 瞄准选项：透镜瞄准 / 内置视频摄像头 / 激光示位
• 型号示例：CellaWafer PA 38 AF 10

随附物（典型）：

• CellaWafer PA 38 测温仪
• 连接线 VK 02/A（5 m）
• 内置摄像头机型用视频线 VK 02/F（5 m）
• USB 线 VK 11/D（1.8 m）
• 软件 CellaView
• 简要说明书

产品页面上的注意事项 / 可用工具：

• 测量场计算器（距离对点径的示例）
• 发射率计算器及发射率设置功能
• 摄像头功能的视频演示

技术规格（部分）：

• 物料号：1124957
• PGB 编号：500
• 测量原理：单色（one‑colour）
• 测量范围：450 – 1800 °C
• 光谱范围：0.88 µm
• 传感器：光电二极管
• 响应时间 t98：≤ 50 ms（T > 650 °C）；≤ 2 ms（T > 850 °C）
• 测量不确定度：读数的 0.3%，最小 4 K
• 重复性：1 K
• 距离比（D:S）：60 : 1
• 测量场形状：圆形
• 示例镜头：PA 20.08（例如 F50 PZ 20.08 — 焦距 0.3 m – ∞）
• 模拟输出：0(4) – 20 mA，线性，可切换，可标定；R ≤ 500 Ω
• 模拟输入：0 – 10 V
• 开关输出：2 × 开放集电极 24 V DC，≤ 30 mA
• 开关输入：2 × 最多 24 V
• 接口：USB、RS‑485
• 电源：24 V DC（+10 % / −20 %）；电流消耗 ≤ 175 mA
• 视频输出（摄像头选件）：复合 PAL
• 显示：4 位红色 LED，数字高度 8 mm；状态显示：2 × LED；控制元素：3 个按键
• 连接：M12，8 针
• 环境温度（工作）：0 – 65 °C；存储：−20 – +80 °C
• 允许湿度：最大 95 % 相对湿度（无冷凝）
• 外壳：不锈钢 V2A（1.4305）；防护等级：IP65
• 尺寸：Ø 65 mm × 220 mm（最大 277 mm）；重量：约 0.9 kg
• 可调参数（示例）：测量范围、模拟 I/O 标度、平滑滤波器、发射率/透过率、反射环境辐射补偿、报警限、线性化、LED 状态、模拟功能、单位 °C/°F；摄像头型号：TBC、白平衡
• 功能（示例）：超温信号（内部温度 > 80 °C 时模拟输出 > 20.5 mA）、维护/测值仿真、用于间断工艺的 ATD（自动温度检测）
• 软件：CellaView