质谱光谱仪 PSM

四极用于化学物质工艺流程

用于等离子体诊断的质量和能量分析器 海顿等离子体探头测量一些关键的等离子体参数，并提供与等离子体反应化学有关的详细信息。 等离子体表征 等离子体蚀刻和ALE HiPIMS 类金刚石碳（DLC）涂层 脉冲激光沉积（PLD）涂层 SiBCN薄膜的直流磁控沉积 一系列的工业流程都在使用等离子体，而且新的应用正在迅速发展。在微电子工业中，更高的产量和缩小的设备几何形状的要求意味着工艺的可重复性和理解是至关重要的。 对等离子体离子和中性物种的反应动力学的详细了解在先进的表面工程工艺（如HIPIMS）的发展中起着关键作用。 带安装法兰的差分泵歧管到工艺室 高灵敏度/稳定性的三滤四极杆，质量范围选择到510amu 脉冲离子计数检测器，有7个十年的动态范围 通过极点偏压扫描100eV的能量分析选项 离子提取/排除光学系统，带有可调整的整体电离器，用于外观电位MS 提供过压保护的潘宁表和联锁装置 用于脉冲等离子体中时间分辨研究的信号门控和可编程信号门控选项 中性物质和自由基的分析是标准的，+V/-V离子分析选项 Mu-Metal、Radio-Metal 屏蔽选项，高压操作选项 通过RS232、RS485或以太网LAN进行MASsoft控制