光学应用表面处理
HEF 已开发出一种薄型多层 PVD 处理技术,可用于光学镀膜(反射镜、防反射解决方案),并提供多种解决方案。
这是一系列用于光学镀膜(如反射镜、抗反射解决方案和滤光片)的薄膜,可为光子元件提供广泛的解决方案。
以极高的厚度精度和良好的光学质量沉积的薄膜可获得极高的反射表面,用于设计基于金属涂层或电介质多层膜的反射器。
使用 PVD 涂层的宽带抗反射涂层可将几乎所有类型基材(玻璃、PC、PMMA 等)的反射率降至 1%以下。这种涂层可以调和上述各种基本要素,同时提供与实施过程相关的其他优势:尺寸精度、间隙质量、对物体质量的影响可忽略不计等。
特点 :
- 可沉积材料范围广:铬、铝、金、特殊合金
- 涂层纯度高
- 控制厚度和表面光洁度
- 抗化学侵蚀(取决于填充材料)
- 适用于大型部件
可处理的材料
- 玻璃 - 塑料 - 有机基复合材料 - 陶瓷 - 金属陶瓷 - 金属和合金
应用实例
- 遮阳板 - 屏幕 - 喇叭筒 - 建筑 - 透镜
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