电气化学二氧化氯传感器 AS3

用于水处理用于过程测量数字

产品概述
德国制造的安培法二氧化氯传感器 AS3，用于在饮用水和最高70 °C的热水中精确监测 ClO2。传感器采用恒电位三电极系统，提供长期消毒控制所需的稳定测量信号。支持模拟（电压 / 4-20 mA）、数字处理的模拟及 Modbus RTU 数字输出。内置自动温度补偿（0–70 °C），可选电极自动清洗（RV1）以降低维护频率。PEEK材质与防护等级连接器适用于高温或侵蚀性水处理环境。

主要功能与接口
• 恒电位三电极工作系统
• 输出：模拟（电压 / 4-20 mA）、数字处理的模拟、Modbus RTU 数字输出
• 集成自动温度补偿（0–70 °C）
• 可选电极自动清洗（RV1）以减少维护

特殊特性

• 适用于高水温
• 适用于高压力
• 响应时间短
• 耐表面活性剂
• 可选电极自动清洗（RV1）可降低维护量

应用
用于饮用水、热水系统以及在高温或侵蚀性条件下的水处理过程中监测二氧化氯及消毒剂。

环境与运行注意事项

• 建议保持稳定pH以确保可靠运行
• 被测水温范围最高至70 °C（测量水中不得有冰晶）
• 环境温度范围：0 … +55 °C
• 最大允许工作压力：8 bar（请遵守安装/保持环条件）

技术规格
测量参数：二氧化氯 / 游离氯（安培法）
测量范围 / 分辨率：0.005…2.000 ppm：0.001 ppm；0.03…20.00 ppm：0.01 ppm；0.5…200.0 ppm：0.1 ppm；其他范围：0.003…1.000 ppm：0.001 ppm；0.003…2.000 ppm：0.001 ppm；0.03…5.00 ppm：0.01 ppm；0.03…10.00 ppm：0.01 ppm
响应时间：T90 ≈ 30 s
被测水温：0 … +70 °C（测量水中不得有冰晶）
环境温度：0 … +55 °C
温度补偿：由集成传感器自动完成，响应时间 t90 ≈ 约10分钟。最大允许温度变化：每小时30 °C；避免突变温度
最大允许工作压力：在 FLC 中使用保持环时：-0.5 bar（无压力脉冲/振动）；在 FLC 中使用保持环时：-8 bar（无压力冲击/振动）
流量（面速度）：无 RV1：最小15 l/h；有 RV1：45–90 l/h
pH 范围：pH 1 – pH 12（至/超过 pH 12 时可能开始发生 ClO2 分解）
磨合时间：首次启动约1小时到2天，取决于水质
零点调整：无需
防护等级：5 针 M12 插接法兰：IP68；带 mA 罩的 2 针端子：IP65
材质：PEEK

技术参数 / 规格

• 型号：AS3
• 测量参数：二氧化氯 / 游离氯（安培法）
• 被测水温范围：0 … +70 °C
• 环境温度：0 … +55 °C
• 最大允许压力：8 bar（使用保持环；有关压力冲击/振动的安装备注请遵守）
• 传感器响应时间：T90 ≈ 30 s
• 温度补偿：自动（集成传感器），t90 ≈ 10 min
• 流量要求：无 RV1：最小15 l/h， 有 RV1：45–90 l/h
• pH 操作范围：pH 1 – pH 12
• 防护等级：IP68（5‑针 M12），IP65（带 mA 罩的 2‑针端子）
• 外壳/材料：PEEK