研磨轮

化学机械抛光 (CMP) 有助于平滑晶圆表面，是 VLSI（非常大规模集成）生产的重要组成部分。 调理对于确保稳定的 CMP 研磨至关重要。 朝日钻石提供各种 CMP 调理器，以适应不同的晶圆形状和规格。