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... 用于高灵敏度测试的光发射光谱法 普发真空 AMI 凭借其光发射光谱法，特别适合用于制药应用。特别是确保 无菌以及保护药物免受微生物、氧气或水分侵入的初级包装是非常关键的。这种专利方法不需要任何特定的示踪气体。而是使用包装容器顶部空间中存在的气体混合物在大的检测范围内执行高灵敏度测试。因此，该测试方法适用于诸如泡罩、小袋、药水瓶和塑料瓶等不同种类的包装，也可用于测试电池盒等密封装置。 核心优势 由于检测范围大，AMI 可以用一个 系统代替氦气泄漏测试和粗泄漏测试。它提供与用户无关的、确定性的通过/不通过结果，并且还可以量化泄漏测试结果 ...
Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions
... 通过离子迁移光谱仪、火焰离子化检测、荧光紫外线或光腔衰荡光谱技术，测量在 2 分钟内发生，具有高灵敏度。而当负载端口上没有 FOUP 时，APA 302 会 监控周围的洁净室环境。 FOUP 环境的可靠分析 为了保证性能，SEMI S2/S8 兼容的 APA 302 配备了自动校准功能，它会在定期的时间间隔内被激活。对于在 APA 中对 AMC 的 监控，可在有晶圆或无晶圆的 POD 中执行。FOUP 可以手动传送，也可通过 ...
Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions
... ADPC 302 是一款在半导体领域独特的用于粒子污染监测的过程内污染管理 系统。 高效粒子监测 亚微米粒子会造成可能导致相当大产量损失的缺陷。即使是测量值为 0.1 μm 的最小粒子，也可能会损坏半导体芯片的结构。创新的 ADPC 302 可测量晶片传送载体内的粒子数量（前开式晶圆传送盒 FOUP，前开式装运箱 FOSB）。全自动的专利工艺从载体表面(包括门)对粒子进行定位和计数。 得益于领先的晶圆，该 系统可用于成批生产和研发分析。主要应用是载体特征化、清洗策略优化和清洗质量检查。 ...
Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions
... 是一个在等待时间内净化晶圆并防止污染的 系统。空气分子污染物（简称 AMC）降低了半导体生产中的产量和质量而 APR 则能有效地防止晶圆和输送箱表面吸附被污染的有机或无机分子。通过在 APR 室里进行疏散，吸附概率大幅度减少。晶圆厂可通过这种方式显著地增加产量，且各个工艺步骤之间的等待时间也会得到优化。 APR 是如何工作的？ FOUP 既可以手动传送，也可通过 2 个装载端口上的悬挂式起重运输 (OHT) 来传送。APR 是一个带有四叠真空室的 系统，用于对晶圆和 ...
Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions
... AMPC 是洁净室和设备前端模块 (EFEM) 监控的理想解决方案。 IC 晶圆厂中的空气分子污染物 (AMC) 被认为是导致良率损失的主要因素。 为了控制和了解污染的来源，普发真空现为半导体市场带来了独特的解决方案，以 监控洁净室以及 EFEM（设备前端模块）。 客户受益 • - 实时化合物测量（酸、碱、有机化合物） • - 用于管理取样管线优先级、质量检查 (QC) 和警报的创新软件 • - 将 96 条取样管线聚集到一个工具上（最多八个分析仪） • ...
Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions
... 设备 监控 系统（FMS）可以配置迎合各种产业（包括制药生产）需求的涉及面广泛的洁净室管理。FMS 系统可以监测不可存活的空气颗粒数、空气温度和相对湿度。我们的 FMS 系统解决方案基于一个开放体系结构平台，该平台旨在与现有客户 系统（SCADA）轻松、精简地整合。每台仪器都是围绕着经过验证的 MET ONE 技术构建的，包括用于常规监测和洁净室分类的便携式MET ...