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... 药水瓶和塑料瓶等不同种类的包装，也可用于测试电池盒等密封装置。 核心优势 由于检测范围大，AMI 可以用一个 系统代替氦气泄漏测试和粗泄漏测试。它提供与用户无关的、确定性的通过/不通过结果，并且还可以量化泄漏测试结果。因此，校准验证以经过认证的校准泄漏为基础，并根据 USP 1207.1 提供高可靠性和准确性。 用在 AMI 中的软件解决方案符合 21 CFR 第 11 部分的要求。选装的软件解决方案可用于制造执行 系统。可对偏移生产的早期迹象和包装设备在软件中实现趋势分析。 AMI ...
Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions
... 在洁净室 环境下，APA 302 是用于先进芯片制造的独特在线监测工具。这台革新性设备可以测量 FOUP 和周围 环境中的 空气分子污染物（简称 AMC）。该测量实时发生，在 ppbv 范围内具有很高的灵敏度。 有效的污染监测 水分和 空气分子污染物 (AMC)，例如，氟化氢 (HF)，于等待时间内，在 FOUP 槽对槽的空间里被释放出来。而这些元素会在图样晶圆上生成晶体生长，从而导致产量的损失和性能的退化。普发真空的 ...
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... ADPC 302 是一款在半导体领域独特的用于粒子污染监测的过程内污染管理 系统。 高效粒子监测 亚微米粒子会造成可能导致相当大产量损失的缺陷。即使是测量值为 0.1 μm 的最小粒子，也可能会损坏半导体芯片的结构。创新的 ADPC 302 可测量晶片传送载体内的粒子数量（前开式晶圆传送盒 FOUP，前开式装运箱 FOSB）。全自动的专利工艺从载体表面(包括门)对粒子进行定位和计数。 得益于领先的晶圆，该 系统可用于成批生产和研发分析。主要应用是载体特征化、清洗策略优化和清洗质量检查。 ...
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... 是一个在等待时间内净化晶圆并防止污染的 系统。 空气分子污染物（简称 AMC）降低了半导体生产中的产量和质量而 APR 则能有效地防止晶圆和输送箱表面吸附被污染的有机或无机分子。通过在 APR 室里进行疏散，吸附概率大幅度减少。晶圆厂可通过这种方式显著地增加产量，且各个工艺步骤之间的等待时间也会得到优化。 APR 是如何工作的？ FOUP 既可以手动传送，也可通过 2 个装载端口上的悬挂式起重运输 (OHT) 来传送。APR ...
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... AMPC 是洁净室和设备前端模块 (EFEM) 监控的理想解决方案。 IC 晶圆厂中的 空气分子污染物 (AMC) 被认为是导致良率损失的主要因素。 为了控制和了解污染的来源，普发真空现为半导体市场带来了独特的解决方案，以 监控洁净室以及 EFEM（设备前端模块）。 客户受益 • - 实时化合物测量（酸、碱、有机化合物） • - 用于管理取样管线优先级、质量检查 (QC) 和警报的创新软件 • ...
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... 设备 监控 系统（FMS）可以配置迎合各种产业（包括制药生产）需求的涉及面广泛的洁净室管理。FMS 系统可以监测不可存活的 空气颗粒数、 空气温度和相对湿度。我们的 FMS 系统解决方案基于一个开放体系结构平台，该平台旨在与现有客户 系统（SCADA）轻松、精简地整合。每台仪器都是围绕着经过验证的 ...
... 可检测污染，确保适当的消毒水平，减少客户对气味、味道和浊度的投诉，从而帮助维护配水水质。 虽然浊度和氯仍然是消毒监测的推荐配置，但 MetriNet Mini 可让用户根据自己的需要灵活定制设备--从 15 个参数中任意选择两个参数，组成可配置的双参数 系统。 MetriNet Mini 采用紧凑、可重复部署的设计，非常适合服务不足的地区，从而将智能水质监测深入到配水管网中。它通过填补数据空白、验证网络性能和更快地响应水质问题，支持更广泛的监测战略。 无论是单独使用还是作为传感器网络的一部分，它都能为主动维护提供可行的见解 ...