膜浸脂机

PECVD 先导涂层机 应用 PECVD 先导涂层机用于在金属箔上生产 p-i-n 叠的非晶氢化硅. coatar 被用作实验工具，用于优化等离子体增强化学气相沉积的功能性涂层和生产试验材料。 工程与技术 PECVD 先导涂层机是一种卷对卷式工厂，专为最大 350 毫米宽金属箔的单侧真空涂层而设计。 涂层通过射频放电沉积。 沉积区域由气密体积内的射频电极组成。 沉积区提供无污染条件。 基材在涂层沉积前预热，在沉积过程中加热，并在涂层后冷却。 箔上的温度梯度不超过 4 OC/ 厘米。 通过热电偶和红外传感器监测电气设备、曲面板和基板上的温度。 基板由加热的弯曲板机械支撑。 弯曲板由几个部分组成，曲率半径为 7.5 米。 涂层机配备了对称的可逆缠绕系统，提供优化的张力和箔处理，而不会刮伤和皱纹。 泵送系统由机械增压泵和干式粗加工泵组成。 每个沉积区的压力可以独立变化，节流阀放置在泵生产线中。 控制系统监控和控制所有指定的过程参数。 数据表 基板：金属箔 基板宽度：350 毫米 基板厚度：50... 100 微米 涂层：A-SiH 最大辊直径：400... 550 毫米 沉积区：8 RF 电容放电