CVD等离子体光源

PVD用于表面处理

用于原子氧和原子氮的 RF Atom 源通过 优化的设计最大限度地减少功率损失 放电区由高品质材料制成，确保光束 零离子电流配置的污染最小化。 高品质复合材料的成长 理想情况下需要中性，原子物种。 而氧气或氮气等分子气体的反应性比分解成原子形态的反应性要小一个数量级。 因此，使用分子氧形成氧化物通常需要较高的温度和/或较长的氧化期，而分子氮对许多材料几乎没有反应。 因此，分离物种的反应性增加了许多数量级，因此允许在低压和合理的基底温度下种植氧化物或氮化物。 然而，等离子体过程中产生的离子物种往往充满活力，并可能造成点缺陷。 另一方面，原子物种所携带的动能微不足道，因此可以在不产生缺陷的情况下快速生长。